清掃後のウェーハの乾燥方法

製造現場において、クリーニング工程を経たウェハも、完全に乾燥して初めて本当に清潔な状態と言えます。残留する水分や微小な汚れ、表面張力の不均一さは、後工程でフォトレジストの付着不良やリソグラフィー時の欠陥として現れます。プロセスの精度が2nm未満になると、通常の回転式乾燥法では対応できません。その根...