Waarom we overstappen op IR-technologie voor leidvrije chips De trend richting ‘groene’ en leidvrije halfgeleiderfabricage is geen tijdelijke trend –...

Waarom we elke enkele verwarmingselement testen (en waarom dat belangrijk is voor u) In de wereld van het opwarmen van siliciumwafers zijn de marges...

Waarom we overstappen op infraroodsneldroging voor wafers De laatste tijd wordt er veel aandacht besteed aan infraroodsneldroging. Dat is logisch:...

Voorkom dat uw droogingsapparaat verandert in een enorme ruimtemotor Het probleem met infraroodlampen is dat ze, zonder reflector, net zoals...

Het veilig houden van de apparatuur bij het gebruik van infraroodverwarming voor het reinigen van gewichten Laten we eerlijk zijn: het plaatsen van...

Inleiding Laten we meteen ter zake komen. Bij de oxidatie van halfgeleiderplakken is het verwarmingselement geen gewone onderdeel; het vormt juist...

Op de lithografielijn weet je nooit zeker hoe snel alles uit de hand kan lopen. Een lichte of sterke verhitting die zelfs maar een halve graad...

Tijdens het proces is de kwaliteit van het spoelen na het reinigen afhankelijk van de droogingsstap die daarna volgt. Als de thermische controle niet...

In de lithografie is een afwijking van een halve graad Celsius tijdens het proces van ‘soft bake’ of ‘hard bake’ zeker geen ‘kleine fout’. Deze...

Op de lithografieafdeling is al een verschil van een halve graad tijdens het zachte bakproces voldoende om een goed gecontroleerd profiel van de...

Op de productielijn is een wafer die uit de reinigingsprocedure komt pas echt schoon wanneer deze volledig droog is. Eventuele restanten van water,...