実際には、洗浄後の水気を拭き取る工程の効果は、その後の乾燥工程の質次第です。もし温度制御が不十分だと、水滴の跡や表面張力の不均一さ、微細な汚染が発生します。私たちは、洗浄後のこのような問題を解決するためにウェーハ乾燥用のランプモジュールを開発しました。これにより、ウェーハは安定した乾いた表面状態で...

製造現場において、クリーニング工程を経たウェハも、完全に乾燥して初めて本当に清潔な状態と言えます。残留する水分や微小な汚れ、表面張力の不均一さは、後工程でフォトレジストの付着不良やリソグラフィー時の欠陥として現れます。プロセスの精度が2nm未満になると、通常の回転式乾燥法では対応できません。その根...