在光刻工艺中，即使在软烘烤过程中只有半度的偏差，也足以导致光阻层的厚度出现异常。为此，我们设计了椭圆偏振仪用晶圆探针加热器，以便在偏差出现之前就加以抑制。该加热器的设计充分考虑了晶圆干燥、光阻预烘烤以及曝光后的烘烤过程中的温度特性——因为在这些过程中，温度的均匀性直接决定了设备的性能。
关键所在 该系统配备了短波红外发射器，再加上石英材质制成的稳定热路径，从而确保探针覆盖范围内的温度均匀性保持在±0.1°C以内。设定点的变化能够立即得到响应，响应时间在几分之一秒以内，且不会出现超调现象。该系统适合在1级洁净室环境中使用，其材料和表面处理方式能够有效避免颗粒产生的问题。在5,000小时以上的使用时间内，其输出稳定性仍可保持在1%以内，因此可以24/7持续运行，同时也有助于规划维护时间。
为何这对生产至关重要 在日常使用中，这种高精度有助于减少光阻层的返工，同时也有助于保持整个芯片结构的热平衡。软烘烤过程中的重复性有助于更精确地控制光阻层的厚度，进而提升后续工序中的对准精度和尺寸控制精度。同样的稳定温度曲线也适用于硬烘烤和固化过程，从而避免了因应力导致的温度不均匀现象。此外，由于发射器是直接加热目标物体而非腔室壁，因此还能节省能源。一旦达到稳定状态，该系统的性能就能持续保持稳定。