はじめに さっそく本題に入りましょう。半導体ウェーハの酸化処理において、加熱要素は単なる部品に過ぎないわけではありません。それはファーネスの核心部分なのです。 そのため、業界では極端な高温環境でも問題なく動作できる加熱器具が求められていました。つまり、ウェーハ全体にわたって温度を±0.1℃という極...

実際には、洗浄後の水気を拭き取る工程の効果は、その後の乾燥工程の質次第です。もし温度制御が不十分だと、水滴の跡や表面張力の不均一さ、微細な汚染が発生します。私たちは、洗浄後のこのような問題を解決するためにウェーハ乾燥用のランプモジュールを開発しました。これにより、ウェーハは安定した乾いた表面状態で...