Di ruang litografi, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah untuk memanaskan bahan tersebut. Ia merupakan cara untuk mengawal dimensi kritikal bahan tersebut dengan tepat. Jika suhu pemanasan berubah sebanyak 2°C, garis-garis yang terbentuk akan berubah sebanyak beberapa nanometer. Kami telah mencipta lampu inframerah berjenis dual-tube untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.
Yang penting dari segi teknikalnya adalah penggunaan cahaya inframerah gelombang pendek, yang membolehkan tenaga disalurkan terus ke bahan fotoresist tanpa merosakkan lapisan di bawahnya. Lampu dual-tube ini memastikan keseragaman suhu permukaan sekitar ±0.1°C. Masa tindak balasnya kurang dari 2 saat, jadi apabila titik tetapan diubah, profilnya akan berubah dengan segera. Ketepatan pengulangan proses berada dalam lingkungan beberapa ratusan persepuluh darjah sahaja.
Kerangka kuarsa dan refluksor yang digunakan memastikan tiada zarah-zarah berbahaya terhasil, sehingga persekitaran di dalam bilik bersih tetap terjaga pada tahap Class 1–100.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran: Anda akan mendapat dimensi kritikal yang stabil, kurangnya keperluan untuk membaiki semula produk, serta kurangnya masalah yang timbul. Profil pemanasan yang konsisten membantu mengurangkan kecacatan yang berlaku secara rawak. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu tersebut hanya memanaskan bahan fotoresist, bukan seluruh bilik.
Lampu ini telah beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan variasi prestasi kurang dari 5%. Ini bermakna kurangnya keperluan untuk penyelenggaraan, dan komponen pengganti juga dapat diramalkan dengan mudah.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Pemasangan lampu ini memerlukan sumber tenaga yang khusus dan aliran tenaga yang terkawal. Prestasi lampu bergantung pada jarak antara refluksor dan permukaan wafer. Lampu ini beroperasi dalam julat voltan yang sempit, dan sistem penyejukan perlu dikawal dengan baik agar suhu tetap stabil.
Rancanglah masa penggantian lampu ini semasa waktu penyelenggaraan, bukan setelah berlakunya kerosakan.