Di bilik proses litografi yang canggih ini, perubahan suhu RTP bukan sahaja dapat dilihat pada graf, tetapi juga dalam bentuk kesilapan semasa proses pembakaran bahan fotoresist. Apabila lampu mula berprestasi lemah, keseragaman suhu akan terjejas, dan jendela proses yang boleh digunakan akan menjadi lebih sempit dengan cepat. Kami telah mencipta lampu ganti ini untuk memastikan kitaran suhu yang stabil dari masa ke masa, tanpa sebarang masalah.
Apa yang penting di bahagian dalaman lampu
Kami menetapkan spesifikasi unsur halogen agar filamen lampu mempunyai geometri yang tepat dan menghasilkan gelombang pendek, supaya tenaga dapat disalurkan dengan efektif ke permukaan wafer. Selongsong kuarsa yang digunakan pula sangat murni dan stabil dari segi RF, sehingga ia dapat berfungsi dengan baik dalam lingkungan suhu kelas 1–100, tanpa meningkatkan jumlah zarah terhasil. Pengeluaran tenaga lampu kekal konsisten selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang sangat kecil, sekaligus melindungi kawalan dimensi penting semasa proses litografi.
Mengapa ini penting dalam proses litografi dan penggunaan bahan fotoresist
Proses pembakaran bahan fotoresist memerlukan suhu yang tepat untuk mengawal penyingkiran pelarut dan tekanan pada lapisan bahan tersebut. Lampu kami memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C, sekaligus menjaga ketepatan lebar garisan pada wafer, mengurangkan kecacatan, dan membantu mencapai hasil yang lebih baik. Spektrum tenaga yang stabil juga memastikan ketepatan tetapan suhu, sehingga hasilnya konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain. Penggunaan tenaga yang efisien serta jangka hayat lampu yang panjang bermakna kurang perlunya menukar lampu, sekaligus memastikan proses berjalan lancar.
Butiran praktikal
Pemasangan lampu ini mudah, tetapi anda perlu memastikan lampu tersebut sesuai dengan geometri bilik RTP serta soket lampu yang ada. Pastikan jenis sambungan dan panjang busur lampu sesuai, dan lakukan kalibrasi profil suhu setelah membuat perubahan. Rancang untuk melakukan kalibrasi semula setelah 100 jam penggunaan awal, agar hasilnya tetap konsisten semasa proses pembakaran bahan fotoresist.