Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk wafer
Kini, terdapat trend yang semakin meningkat ke arah penggunaan kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah. Ia merupakan pilihan yang logik. Mengapa perlu menggunakan pelarut kimia berbahaya atau mencipta jejak karbon yang banyak, sedangkan kita tidak perlu berbuat demikian?
Cara kerja sinar inframerah sangat efisien. Daripada memanaskan ruang pemanggangan yang besar dan membazir tenaga, ia menggunakan gelombang elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini menjadikan prosesnya lebih efektif.
Aspek “mesra alam” dalam proses pengeringan
Jika anda pernah menggunakan kaedah pengeringan konvensional, anda pasti tahu betapa pembazirannya. Udara panas dialirkan ke seluruh kawasan tersebut. Ini merupakan pembaziran tenaga.
Sinar inframerah pula berbeza. Ia menggunakan radiasi gelombang pendek yang dapat meresap terus ke lapisan pelindung pada wafer. Hasilnya, suhu yang diinginkan dapat dicapai dengan lebih cepat. Selain itu, kerana tidak memerlukan gas pembakaran atau katalis berbasis timbal untuk melakukan proses pengeringan, kaedah ini memenuhi syarat-syarat “mesra alam” yang dituntut oleh kilang-kilang moden.
Keseimbangan antara jarak dan suhu
Inilah bahagian yang rumit. Jarak antara lampu sinar inframerah dan wafer sangat penting. Jika jaraknya terlalu dekat, wafer akan menjadi panas secara tidak seimbang, atau bahkan terbakar. Jika jaraknya terlalu jauh, kelajuan pengeringan akan menurun, dan ini akan menyebabkan kerugian kewangan. Kita perlu mengambil masa yang lama untuk menyesuaikan jarak tersebut agar sesuai dengan keperluan proses pengeringan.
Selain itu, kita juga perlu memastikan kepadatan haba yang digunakan sesuai. Lampu kuarsa yang berkuasa tinggi memang efektif, tetapi ia memberi beban yang besar pada sistem penyejukan. Jika sistem penyejukan tidak mampu menangani beban haba tersebut, komponen elektronik akan rosak, dan ini akan menyebabkan masalah yang serius.
Realiti penggunaan sinar inframerah
Walaupun sinar inframerah merupakan kaedah yang efektif, ia bukanlah penyelesaian yang sempurna. Cabaran utamanya adalah bagaimana mencapai keseragaman suhu. Kerana sinar inframerah bergerak dalam garis lurus, sebarang gangguan seperti bayangan atau ketidaksempurnaan posisi lampu akan menyebabkan proses pengeringan yang tidak sekata. Untuk mengatasi masalah ini, kita perlu memastikan wafer berada dalam keadaan rata sepenuhnya.
Saya sentiasa mencadangkan penggunaan pemegang wafer yang dilengkapi dengan kawalan PID. Ini akan membantu mengekalkan suhu pada tahap yang stabil, sehingga proses pengeringan dapat berjalan dengan lancar.