Dalam proses pengeluaran IC pemacu paparan, cip-cip tersebut tidak dapat bertolak ansur dengan perubahan suhu yang berlaku. Walaupun perubahan suhu hanya sebanyak 0.5°C sahaja, ketebalan lapisan photoresist akan berubah, dan kualiti hasil pengeluaran juga akan terjejas.
Dalam bilik pengeringan pula, kelembapan yang tidak dapat dikeluarkan sepenuhnya boleh menyebabkan masalah mikro-bridge pada cip tersebut. Masalah ini hanya akan disedari setelah beberapa minggu kemudian, apabila kualiti produk menurun. Kami telah membangunkan pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah ini – dengan kawalan suhu yang tepat, tanpa ruang untuk perubahan suhu yang tidak diingini, serta konsistensi yang tinggi dalam proses pengeluaran.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan pemanas inframerah gelombang pendek bersama pengeluarkan haba berjenis kuarsa yang bertindak balas dengan cepat. Pada wafer berukuran 200 mm dan 300 mm, konsistensi suhu dapat dicapai pada tahap ±0.1°C. Konsistensi suhu semasa proses pembakaran pula adalah ±0.2°C. Dengan cara ini, proses pembakaran, pengeringan, dan pengerasan lapisan photoresist dapat dilakukan dengan tepat, tanpa perlu menyesuaikan tetapan suhu secara berulang-ulang.
Pemanas ini digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada zarah kontaminan yang terhasil, seperti yang disahkan melalui pemantauan zarah secara berkala. Penggunaan tenaga pula disesuaikan mengikut prosedur tertentu, dan profil perubahan suhu dapat diulang dalam masa 10 ms. Ini membantu melindungi lapisan tipis pada cip daripada tekanan haba.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran IC pemacu paparan:
Lapisan-lapisan pada cip tersebut sangat sensitif – ia terdiri daripada bahan dielektrik jenis low-k, logam yang nipis, dan struktur yang halus. Oleh itu, kawalan suhu perlu dilakukan dengan teliti. Dengan penggunaan pemanas inframerah ini, prestasi lapisan photoresist dapat dikawal dengan baik. Proses penyambungan semula cip menjadi lebih mudah, dan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran juga berkurangan. Selain itu, kawalan dimensi kritikal cip juga menjadi lebih baik, dan jumlah kesilapan semasa proses pengeluaran juga berkurangan.
Apa yang perlu diketahui sebelum menggunakan alat ini:
Pemanas ini boleh dipasang pada sistem yang sedia ada, tetapi penyesuaian posisi pemanas perlu dilakukan dengan teliti. Jarak antara pengeluarnya dan wafer perlu dikekalkan pada tahap ±0.5 mm agar konsistensi suhu dapat dicapai. Selain itu, keseimbangan antara jisim haba bahan pembawa panas dan nilai emisiviti permukaan wafer juga perlu dipastikan. Lakukan ujian awal untuk menentukan kadar perubahan suhu dan masa yang diperlukan untuk proses pengeringan. Setelah ditetapkan, pemanas ini boleh beroperasi 24/7 dengan sedikit penyelenggaraan sahaja. Lampu pemanas ini pula mampu beroperasi selama 5,000 jam atau lebih dengan prestasi yang stabil.