在清洗之后，整个冲洗流程的质量取决于后续的干燥步骤。如果温度控制不当，就会出现水痕、表面张力不均以及微污染等问题。我们设计的晶圆干燥模块能够消除这些缺陷，从而使晶圆在进入光刻工序时具备稳定的干燥表面以及可预测的温度特性。
真正重要的是什么？ 该模块将短波和中等波长的红外线源结合在一起，通过石英材料来增强加热效果，从而实现快速且选择性强的表面加热。我们能够将晶圆表面的温度控制在±0.1°C的范围内，空间上的均匀性也处于同样的精确度水平。该模块适合在1级洁净室环境中使用，其材料不会释放有害物质，而且气流控制得当，可以避免在稳定运行过程中产生颗粒物。其功率密度经过精确调整，能够在不超出光刻胶耐受范围的情况下快速去除残留水分。
为什么它适合这个流程？ 在清洗之后，需要在光刻胶涂覆和烘烤之前让晶圆保持干燥且无污染状态。这款灯可以在几秒钟内完成干燥过程，因此能够缩短处理时间，同时避免晶圆承受过大的热应力。由于表面状态稳定，因此软烘烤和硬烘烤的过程也能保持稳定——不会有隐含的水分影响溶剂的蒸发。这样一来，工艺的重复性就会提高，非计划性的停机时间也会减少。此外，该模块设计为可24/7连续工作，其输出性能在5,000小时以上仍能保持稳定。
一些有用的实用建议 安装时需要确保与工艺腔体的排气系统精确对齐，同时还要确保灯端的电压稳定。输出强度会受到安装位置的影响，因此请一次性确定好相关参数并固定下来。当洁净室内的湿度保持在指定范围内时，灯的性能最佳；一旦超出这个范围，干燥时间就会受到影响。建议定期对强度进行校准，以保持±0.1°C的精度，从而确保干燥步骤符合标准要求。