在光刻过程中，对光刻胶进行烘烤并非简单的预热步骤，而是一项至关重要的工序，它直接影响到关键尺寸的精确度。如果烘烤温度偏差2摄氏度，那么线条的精度就会下降几纳米。为此，我们设计了双管红外灯，以此来消除这种误差。
从技术角度来看，这种设备利用短波红外线来加热光刻胶，同时不会损伤下面的薄膜。双管设计能够确保晶圆表面的温度均匀性，其误差范围在±0.1摄氏度之内。响应时间不到2秒，因此一旦调整设定值，参数就能立即随之变化。不同批次之间的重复性也保持在几百分之一度以内。
石英外壳以及反射器的设计使得产生的颗粒数几乎为零，从而确保了设备能在1-100级洁净室环境中正常工作。
为什么这种设备适合用于生产呢？因为它能确保关键尺寸的稳定性，减少返工次数，同时还能降低随机缺陷的发生率。由于是光刻胶被加热，而非整个腔体被加热，因此能耗也会更低。这类设备已经运行了5000小时以上，其性能波动还不到5%。这意味着无需频繁进行维护，而且备件需求也相对较低。
有一些实际使用注意事项：安装时需要专用的、屏蔽良好的电源供应，同时还要确保设备的安装位置准确。设备的性能取决于反射器与晶圆平面之间的距离。此外，设备的操作需要在特定的电压范围内进行，同时还需要控制好环境温度，以保持其正常的温度状态。
建议在设备维护期间更换设备，而不是在设备出故障后再更换。