実際には、洗浄後の水気を拭き取る工程の効果は、その後の乾燥工程の質次第です。もし温度制御が不十分だと、水滴の跡や表面張力の不均一さ、微細な汚染が発生します。私たちは、洗浄後のこのような問題を解決するためにウェーハ乾燥用のランプモジュールを開発しました。これにより、ウェーハは安定した乾いた表面状態で、予測可能な温度履歴を持った状態でリソグラフィ工程に送られます。
実際に重要なのは何か このモジュールは、クォーツを使用したランプパッケージ内に短波および中波の赤外線源を組み合わせており、迅速かつ選択的に表面を加熱することができます。ウェーハ全体での目標温度の再現性は±0.1℃以内であり、空間的な均一性も同じ範囲内です。このモジュールはクラス1のクリーンルーム環境にも適しており、ガス放出が少なく、粒子の発生も抑えられます。また、出力密度は調整されており、洗浄液の膜を迅速に除去しつつ、フォトレジストの温度上昇を防ぎます。
なぜこれが適しているのか 洗浄後は、フォトレジストを塗布する前に、乾燥していて汚染されていないウェーハが必要です。このランプを使えば数秒で乾燥できるため、サイクルタイムが短縮され、ウェーハに熱ストレスがかかることもありません。表面が一貫しているため、ソフトベイクやハードベイクのプロセスも安定します。また、24時間365日稼働できるように設計されており、5,000時間以上の安定した出力が得られます。
後で役立つポイント 設置時には、プロセスチャンバーの排気口と正確に位置合わせを行い、ランプ端子の電圧が安定していることを確認する必要があります。出力強度は装置の位置に敏感なので、一度設定して記録し、固定しておくべきです。また、クリーンルームの湿度をプロセス要件内に保つことが最適です。そうでないと、乾燥時間が不安定になります。±0.1℃の再現性を維持するために、定期的に出力強度を校正する必要があります。