در مرحله شستشو، کیفیت کل فرآیند تنها به اندازه مرحله خشککردن مهم است. اگر کنترل دما مناسب نباشد، ردپاهای آب، تفاوتهای تنش سطحی و آلودگیهای ریز روی سطح وجود خواهد داشت. ما ماژول خشککننده ویفرها را به گونهای طراحی کردهایم که این نوسانات را پس از شستشو از بین ببرد؛ بنابراین ویفر با سطحی پایدار و خشک، و همچنین دمایی قابل پیشبینی، وارد مرحله لیتوگرافی میشود.
آنچه واقعاً اهمیت دارد
این ماژول، منابع مادون قرمز با امواج کوتاه و متوسط را در یک پکیج لامپی ترکیب کرده است؛ این پکیج برای گرم کردن سریع و انتخابی سطح ویفر طراحی شده است. ما تکرارپذیری دما را در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکنیم؛ همچنین یکنواختی فضایی نیز در همین محدوده باقی میماند. این ماژول سازگار با محیطهای تمیز است؛ مواد مورد استفاده در ساخت آن نیز دارای میزان گاز خروجی کمی هستند، و مسیر جریان هوا نیز به گونهای طراحی شده که تولید ذرات در حین عملکرد صفر باشد. چگالی انرژی نیز به گونهای تنظیم شده که لایه شستشو را به سرعت از بین ببرد، بدون اینکه دمای ویفر بیش از حد افزایش یابد.
چرا این راهحل مناسب است
پس از شستشو، نیاز به ویفری خشک و بدون آلودگی وجود دارد؛ این لامپ در عرض چند ثانیه ویفر را خشک میکند؛ بنابراین زمان فرآیند کاهش مییابد، بدون اینکه ویفر تحت فشار حرارتی قرار گیرد. پروفایلهای گرمایشی نیز پایدار باقی میمانند، زیرا سطح ویفر یکنواخت است؛ هیچ آب پنهانی وجود ندارد که باعث اختلال در فرآیند تبخیر حلالها شود. تکرارپذیری فرآیند نیز بهبود مییابد؛ همچنین زمان توقف غیرمنتظره نیز کاهش مییابد، زیرا این ماژول برای عملکرد ۲۴ ساعته طراحی شده است؛ با خروجی پایدار در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت کاری.
نکاتی که بعداً از آنها سپاسگزار خواهید شد
برای نصب این ماژول، نیاز به هماهنگی دقیق با سیستم تخلیه گازهای اتاق فرآیند وجود دارد؛ همچنین باید ثبات ولتاژ در ترمینالهای لامپ نیز بررسی شود. شدت نور خروجی از لامپ، به موقعیت قرارگیری لامپ وابسته است؛ بنابراین باید موقعیت لامپ را یکبار تنظیم کرد، آن را ثبت کرد و ثابت نگه داشت. لامپ در شرایطی عملکرد بهتری دارد که رطوبت اتاق فرآیند در محدوده مشخصی باشد؛ در صورت خروج از این محدوده، زمان خشککردن افزایش خواهد یافت. برای حفظ تکرارپذیری دما در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد، باید به طور منظم شدت نور لامپ را تنظیم کرد.