제조 공정에서 RTP의 온도 변동은 단순히 그래프에만 나타나는 것이 아니라, 포토레지스트의 건조 과정에서 오류가 발생하거나 불균일성이 생기는 형태로도 나타납니다. 램프의 성능이 저하되면 열적 균일성이 떨어지고, 공정의 안정성도 급격히 낮아집니다. 우리는 이러한 문제를 해결하기 위해, 반복적인 가열/냉각 과정에서도 온도가 일정하게 유지될 수 있도록 특별히 설계된 램프를 만들었습니다.
핵심적인 요소들 우리는 할로겐 원소의 구조를 정밀하게 설계하여 에너지가 웨이퍼에 효과적으로 전달되도록 했습니다. 또한, 쿼츠 소재는 매우 순수하고 RF에 대해서도 안정적이어서, Class 1–100 환경에서도 입자 수가 증가하지 않으면서 안정적으로 작동합니다. 5,000시간 이상 사용해도 성능이 일관되며, 온도 변동도 매우 적어서 열적 안정성과 치수 제어에 도움이 됩니다.
리소그래피 및 포토레지스트 처리에서의 중요성 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서는 용매 제거 및 필름의 응력을 조절하기 위해 온도를 정확하게 제어해야 합니다. 우리의 램프는 ±0.1°C 이내의 정밀한 온도 제어가 가능하여, 라인 폭을 안정적으로 유지하고 결함을 줄여주며, 더 높은 생산성을 달성할 수 있도록 도와줍니다. 또한, 안정적인 스펙트럼 덕분에 여러 번의 공정에서도 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 에너지 소비도 최적화되어 있으며, 긴 수명 덕분에 램프 교체 횟수도 줄어들어 공정의 연속성이 유지됩니다.
실용적인 정보 설치는 간단하지만, 램프를 특정 RTP 챔버의 구조와 기존 램프 소켓에 맞게 조정해야 합니다. 커넥터 유형과 아크 길이를 확인한 후, 교체 후에는 반드시 온도 프로파일을 재보정해야 합니다. 포토레지스트 건조 공정의 일관성을 확보하기 위해, 처음 100시간 사용 후에 다시 한 번 재보정을 해야 합니다.