Tại sao chúng ta chuyển sang phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại cho các tấm wafer
Gần đây, có xu hướng ngày càng mạnh mẽ trong việc sử dụng phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại. Điều này hoàn toàn hợp lý. Tại sao phải sử dụng các chất dung môi hóa học nguy hiểm hoặc tạo ra lượng khí thải carbon lớn khi có thể tránh được điều đó?
Cơ chế hoạt động của tia hồng ngoại khá thông minh. Thay vì sử dụng lò nung lớn để làm nóng không gian xung quanh, phương pháp này sử dụng sóng điện từ để tác động trực tiếp lên bề mặt tấm wafer. Điều này giúp tiết kiệm năng lượng.
Ưu điểm của phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại
Nếu bạn đã từng sử dụng phương pháp sấy truyền thống, bạn sẽ biết rằng việc sử dụng không khí nóng để sấy sẽ gây lãng phí năng lượng. Trong khi đó, tia hồng ngoại sử dụng bức xạ sóng ngắn để tác động trực tiếp lên lớp phủ trên bề mặt tấm wafer. Kết quả là nhiệt độ cần thiết để khử ẩm có thể đạt được nhanh hơn. Hơn nữa, vì không cần sử dụng khí đốt hay chất xúc tác chứa chì, phương pháp này hoàn toàn tuân thủ các tiêu chuẩn “thân thiện với môi trường” mà các nhà máy hiện nay đang yêu cầu.
Vấn đề liên quan đến khoảng cách và nhiệt độ
Đây là điểm khó khăn nhất. Khoảng cách giữa bóng đèn tia hồng ngoại và tấm wafer rất quan trọng. Nếu khoảng cách quá gần, tấm wafer sẽ bị nóng quá mức; ngược lại, nếu khoảng cách quá xa, hiệu suất sấy sẽ giảm, dẫn đến tổn thất chi phí. Chúng tôi dành rất nhiều thời gian để điều chỉnh khoảng cách này sao cho phù hợp với mức công suất cần thiết.
Bạn cũng cần chú ý đến mật độ nhiệt. Những bóng đèn tia hồng ngoại có công suất cao sẽ tạo ra lượng nhiệt lớn, gây áp lực lớn lên hệ thống làm mát. Nếu hệ thống làm mát không thể xử lý lượng nhiệt này, các linh kiện điện tử sẽ bị tổn hại, và bạn sẽ gặp nhiều vấn đề nghiêm trọng.
Thực tế của phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại
Mặc dù phương pháp này rất hiệu quả, nhưng nó không phải là giải pháp hoàn hảo. Vấn đề lớn nhất là việc đảm bảo sự đồng đều trong quá trình khử ẩm. Vì tia hồng ngoại di chuyển theo đường thẳng, nên bất kỳ điểm bị che khuất hay sự sai lệch nhỏ nào trong vị trí đặt bóng đèn đều có thể gây ra sự không đồng đều trong quá trình khử ẩm. Để khắc phục điều này, bạn cần đảm bảo rằng tấm wafer được đặt ở vị trí cố định.
Tôi luôn khuyên nên sử dụng bộ điều khiển PID có chức năng điều chỉnh tự động. Điều này giúp duy trì nhiệt độ ổn định và ngăn chặn tình trạng nhiệt độ vượt quá mức cho phép vào giai đoạn cuối của quá trình khử ẩm.