http://pure-quartz-ir-heater.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D1%96%D0%B9/ Recent content in Віфлій on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo uk Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/uk/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/uk/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Лампа для сушіння вафер після очищення"></p> <p>Під час процедури промивання якість результату залежить від ефективності наступного кроку – сушіння. Якщо контроль температури є недостатньо точним, можуть з’явитися сліди води, нерівномірності на поверхні та мікрозабруднення. Ми розробили модуль для сушіння пластин так, щоб усунути ці проблеми після очищення. Таким чином, пластина потрапляє на стадію літографії зі стабільною, сухою поверхнею та передбачуваними параметрами температури.</p> <p><strong>Що насправді має значення</strong> Модуль поєднує джерела інфрачервоного випромінювання короткої та середньої довжини хвилі в одному корпусі, що сприяє швидкому та селективному нагріванню поверхні. Ми забезпечуємо стабільність температури на рівні ±0,1°C по всій поверхні пластини, а просторова однорідність також знаходиться в межах цього діапазону. Корпус модуля придатний для використання в чистих приміщеннях класу 1; матеріали, з яких він складається, виділяють мінімум газів, а система подачі повітря контролює кількість частинок, що запобігає їх утворенню під час роботи. Інтенсивність світла налаштовується так, щоб швидко видалити залишки рідини, не перевищуючи при цьому температурні параметри фотополімеру.</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/uk/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/uk/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Як висушити віфер після чищення"></p> <p>На виробничій лінії, віфер, який виходить з процесу чищення, не є справді чистим, поки не стане абсолютно сухим. Будь-які залишки води, мікроплями чи нерівномірності поверхневого натягу можуть призвести до проблем із зчепленням фоточутливого матеріалу та дефектів на поверхні віфера під час процедури літографії. Коли товщина шару фоточутливого матеріалу становить менше 2 нм, стандартний цикл сушіння вже не є ефективним. Основною причиною є тепловий ефект.</p> <h3 id="що-насправді-має-значення-з-технічної-точки-зору">Що насправді має значення з технічної точки зору</h3> <p>Ми замінюємо метод широкоспектрального нагрівання на цільове надання енергії за допомогою ІЧ-випромінювання. Довжина хвилі підбирається так, щоб вона впливала саме на максимум поглинання води, а не на сам матеріал. Це забезпечує однорідність температури на всій поверхні віфера – припуск ±0,1°C.</p>