http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/tags/temizlik/ Recent content in Temizlik on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo tr Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Temizlemeden sonra wafer kurutma lambası"></p> <p>Temizleme işleminden sonra yapılan durulama adımının etkinliği, ardından gelen kurutma adımına bağlıdır. Eğer termal kontrol yetersizse, su lekeleri, yüzey gerilimi farklılıkları ve mikro kirler ortaya çıkar. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için wafer kurutma lambası modülünü geliştirdik; böylece wafer, stabil ve kuru bir yüzeyle ve öngörülebilir bir termal yapıyla litografi işlemine tabi tutulur.</p> <p><strong>Asıl önemli olan şeyler</strong><br> Bu modül, hızlı ve yüzey seçici ısıtma sağlamak amacıyla kuvars destekli bir lamba paketinde kısa dalga ve orta dalga kızılötesi kaynakları bir araya getirir. Wafer üzerindeki hedef sıcaklık ±0.1°C içinde tutulur ve mekansal düzenlilik de aynı tolerans aralığında kalır. Bu modül, Sınıf 1 temiz oda koşullarına uygun şekilde tasarlanmıştır; düşük gaz salınımı olan malzemeler kullanılır ve parçacık oluşumunu sıfıra indiren bir hava akış sistemi bulunur. Güç yoğunluğu, durulama filmini hızlıca uzaklaştıracak şekilde ayarlanmıştır; böylece fotoresistin termal dengesi bozulmaz.</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Temizlemeden sonra wafer ı nasıl kurutulur"></p> <p>Üretim tesislerinde, temizleme işleminden çıkan yongalar, tamamen kuru olana kadar gerçek anlamda temiz sayılmaz. Kalan su izleri, mikro lekeler veya yüzey gerilimi farklılıkları, daha sonra fotorezistin yüzeye yapışmasında sorunlara ve litografi sürecinde parça kusurlarına yol açar. Süreç penceresi 2 nm’nin altına düştüğünde, standart kurutma yöntemleri yeterli olmaz. Bunun temel nedeni termal etkilerdir.</p> <p><strong>Teknik açıdan asıl önemli olan şeyler</strong> Geniş spektrumlu ısıtma yerine, NIR kullanarak hedefe yönelik enerji uygulaması tercih edilir. Dalga boyu, substratın değil, suyun emilim zirvesine ayarlanır. Böylece tüm yüzey üzerinde ±0,1°C’lik bir termal homojenlik sağlanır.</p>