<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nasıl on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/tags/nas%C4%B1l/</link>
		<description>Recent content in Nasıl on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/tags/nas%C4%B1l/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Temizlemeden sonra wafer ı nasıl kurutulur</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/tr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Temizlemeden sonra wafer ı nasıl kurutulur&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Üretim tesislerinde, temizleme işleminden çıkan yongalar, tamamen kuru olana kadar gerçek anlamda temiz sayılmaz. Kalan su izleri, mikro lekeler veya yüzey gerilimi farklılıkları, daha sonra fotorezistin yüzeye yapışmasında sorunlara ve litografi sürecinde parça kusurlarına yol açar. Süreç penceresi 2 nm’nin altına düştüğünde, standart kurutma yöntemleri yeterli olmaz. Bunun temel nedeni termal etkilerdir.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Teknik açıdan asıl önemli olan şeyler&lt;/strong&gt;&#xA;Geniş spektrumlu ısıtma yerine, NIR kullanarak hedefe yönelik enerji uygulaması tercih edilir. Dalga boyu, substratın değil, suyun emilim zirvesine ayarlanır. Böylece tüm yüzey üzerinde ±0,1°C’lik bir termal homojenlik sağlanır.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
