Хватит тратить время в ожидании, пока подогреется пластинка. Если вы по-прежнему используете систему циркуляции горячего воздуха для обработки полупроводников, вы фактически платите «налог на время». Подумайте о принципе работы такой системы: сначала необходимо нагреть всю камеру, затем — газ, а потом ещё и дождаться, пока тепло распространится по всей поверхности пластинки. Это медленно и утомительно.
Система инфракрасного нагрева в вакууме избавляет от необходимости использования воздуха как посредника. Вместо этого инфракрасные лампы направляют электромагнитное излучение прямо на поверхность обрабатываемого материала. Это происходит очень быстро. Поскольку в вакууме нет воздуха, который мог бы мешать процессу, мы используем лампы с коротковолновым или средневолновым излучением. В то время как система с горячим воздухом продолжает работать медленно, пытаясь стабилизировать температуру, система инфракрасного нагрева достигает нужной температуры за несколько секунд.
Это значительно ускоряет процесс обработки. К тому же не требуется тратить большое количество энергии на нагрев стенок камеры. Энергия поступает именно туда, куда нужно. Но это не так просто, как кажется. Необходимо учитывать так называемый «эффект тени»: если корпус лампы находится на пути излучения, некоторые участки поверхности пластинки не получат необходимого тепла. Обычно это решается с помощью нескольких ламп или использования золотистых экранов, которые отражают излучение обратно на целевую поверхность.
Ещё один момент: лампы с высокой мощностью становятся чрезвычайно горячими на своих концах. Если не обеспечить надлежащее охлаждение, контакты ламп могут перегреться. Это быстрый способ разрушить лампу.
В конце концов, речь идет о переходе от медленной пакетной обработки к непрерывной обработке. Вы заменяете простой вентилятор более точным устройством. Если вы хотите увеличить объем производства, единственный способ — сократить время обработки.