На производственном цеху волокно, выходящее из процедуры очистки, считается действительно чистым только тогда, когда оно полностью высохнет. Любые остатки воды, микропятна или различия в поверхностном натяжении могут привести к проблемам с адгезией фотополимера и дефектам на поверхности волокна в процессе литографии. Когда точность процесса снижается до уровня менее 2 нм, стандартные методы сушки уже неэффективны. Коренная причина заключается в тепловых факторах.
Что действительно важно с технической точки зрения Мы заменяем методы общего нагрева на целенаправленную передачу энергии с использованием инфракрасного излучения. Длина волны излучения выбирается таким образом, чтобы она соответствовала пику поглощения воды, а не основной поверхности волокна. Это позволяет достичь теплового равномерия на всей поверхности волокна в пределах ±0,1°C.
Эвапорация воды становится предсказуемой, без возникновения помех для процесса литографии. Устройство предназначено для использования в чистых помещениях класса 1–100, и во время работы не происходит никаких проблем с частицами.
Почему это работает на практике Необходим процесс, который может выполняться снова и снова. Наш система термоконтроля обеспечивает стабильность в критически важный период после очистки, что позволяет сохранять постоянную поверхностную энергию для последующего нанесения фотополимера.
Такая стабильность устраняет один из ключевых факторов, влияющих на качество литографии, что способствует улучшению контроля над шириной линий и сокращению количества необходимых корректировок. Система доказала свою надежность 24/7 без каких-либо неплановых перебоев, что позволяет сохранять тепловой баланс и обеспечивать стабильную производительность.
Что необходимо сделать заранее Для использования этого устройства необходимо тщательно подготовить систему вентиляции. Камера для сушки должна быть соединена с существующей системой вентиляции и обработки химикатов.
Устройство имеет прочную конструкцию, но оно чувствительно к толщине слоя воды на поверхности волокна. Поэтому процесс очистки должен быть стабильным. Ожидается, что времени на настройку будет достаточно, чтобы сформировать оптимальный тепловой профиль с учетом используемых химикатов и времени процедуры очистки.
Результат очевиден: каждый дефект, предотвращенный на этапе сушки, означает, что одно волокно меньше будет выброшено.