Fábrica de fita térmica de alta temperatura

Thu, 02 Jul 2026 03:17:45 +0800

Na linha de produção, as flutuações de temperatura durante o processo de secagem das wafers ou durante o tratamento do fotoresist não são apenas um problema técnico a ser registrado nos gráficos SPC. Trata-se, na verdade, de perda de produtividade. Desenvolvemos nossa solução de aquecimento em alta temperatura com base no uso de radiação infravermelha de onda curta (NIR), pois ela oferece calor estável e rápido ao substrato, sem precisar tocá-lo.

O que é importante por trás disso tudo
A energia NIR penetra rapidamente através da wafe e da fita utilizada no processo, permitindo que a temperatura seja mantida dentro dos limites desejados. Falamos de uma uniformidade de ±0,1°C em toda a superfície da wafe, o que garante que as dimensões críticas se mantenham estáveis após a exposição. O sistema lida tanto com processos de aquecimento suave quanto com processos mais intensos, com controle rigoroso da temperatura, reduzindo assim a variabilidade no derretimento do fotoresist.

Térmico on Pure Quartz Infrared Heaters

Fábrica de fita térmica de alta temperatura