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		<title>Como on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
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				<title>Como secar a bolacha após a limpeza</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Como secar a bolacha após a limpeza&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na fábrica de produção, um wafer que sai da fase de limpeza ainda não está verdadeiramente limpo até que esteja completamente seco. Quaisquer vestígios de água, manchas microscó&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;picas&lt;/a&gt; ou diferenças de tensão superficial podem causar problemas de adesão do fotoresist e defeitos na litografia. Quando a precisão do processo fica abaixo de 2 nm, o ciclo padrão de secagem por centrifugação não é suficiente. A causa raiz desse problema é térmica.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;o-que-realmente-importa-do-ponto-de-vista-técnico&#34;&gt;O que realmente importa, do ponto de vista técnico&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;Substituímos o aquecimento de amplo espectro por um método de entrega de energia direcionada, utilizando luz infravermelha. O comprimento de onda é ajustado para corresponder ao pico de absorção da água, e não ao substrato. Isso permite uma uniformidade térmica de ±0,1°C em toda a superfície do wafer.&lt;/p&gt;</description>
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