<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sonde on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/nl/tags/sonde/</link>
		<description>Recent content in Sonde on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:31:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/nl/tags/sonde/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ellipsometrie wafelsondesverwarmer</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/nl/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:31:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/nl/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Ellipsometrie wafelsondesverwarmer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling is al een verschil van een halve graad tijdens het zachte bakproces voldoende om een goed gecontroleerd profiel van de fotorezist in een oneffenheid in de dikte te veranderen. De heater voor de ellipsometrieprobe is ontworpen om dit soort oneffenheden te voorkomen, nog voordat ze optreden. Hij is ontworpen met rekening gehouden met de thermische omstandigheden tijdens het drogen van de wafers, het voorbakken van de fotorezist en het nakooken na de belichting – hier bepaalt de temperatuuruniformiteit namelijk de geometrie van het apparaat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
