Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Sun, 19 Jul 2026 09:02:03 +0800

Menjaga Kebersihan Dalam Proses Pemanasan Di Ruang Vakum
Jika anda memanaskan bahan kerja di bilik bersih kelas 100 atau dalam ruang vakum yang tinggi, anda pasti tahu betapa berbahayanya keadaan ini: sekiranya ada sebutir debu atau sedikit gas yang terlepas, keseluruhan produk yang diproses akan menjadi tidak berguna.

Lampu IR biasa tidak sesuai untuk digunakan dalam situasi seperti ini. Kebanyakan lampu tersebut menggunakan bahan perekat yang murah atau kaca berkualiti rendah, yang akan menghasilkan gas apabila panas. Ini akan merosakkan bahan yang diproses dan menyebabkan pembaziran masa yang banyak.

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Fri, 17 Jul 2026 01:48:41 +0800

Berhenti membuang masa menunggu wafer menjadi panas.
Jika anda masih bergantung pada sistem pengudaraan panas untuk proses pemprosesan semikonduktor, sebenarnya anda sedang membayar “cukai masa”.
Fikirkan bagaimana cara kerja udara yang digunakan. Anda perlu memanaskan seluruh bilik tersebut terlebih dahulu, kemudian memanaskan gas yang ada di dalamnya. Selepas itu, barulah anda perlu menunggu sehingga haba tersebut meresap ke dalam wafer. Proses ini sangat lambat dan memenatkan.
Pemanasan menggunakan sinar inframerah vakum pula mengelakkan keperluan untuk menggunakan udara sebagai perantara. Daripada menunggu udara panas, sinar inframerah akan menghantar tenaga elektromagnetik terus ke permukaan wafer.
Ia sangat cepat. Sangat pantas.
Oleh kerana tiada udara di dalam vakum yang boleh menghalang proses ini, kita gunakan lampu inframerah berfrekuensi rendah atau sederhana untuk memanaskan wafer. Sementara sistem udara panas masih memerlukan masa yang lama untuk mencapai suhu yang diinginkan, lampu inframerah pula dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa saat sahaja.
Ini akan meningkatkan kelajuan proses pemprosesan anda. Selain itu, anda juga tidak perlu membazir tenaga elektrik untuk memanaskan dinding bilik tersebut. Tenaga tersebut akan digunakan secara efektif di tempat yang diperlukan.
Namun, ia bukanlah sesuatu yang mudah. Anda perlu menghadapi masalah “kesan bayangan”. Jika penutup lampu menghalang cahaya daripada sampai ke bahagian tertentu pada wafer, bahagian tersebut tidak akan mendapat haba yang diperlukan. Kita biasanya menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan beberapa lampu atau penutup berlapis emas untuk memantulkan tenaga tersebut kembali ke permukaan wafer.
Perlu diingat juga bahawa lampu berkuasa tinggi ini akan menjadi sangat panas di hujungnya. Jika sistem penyejukan tidak mencukupi, komponen lampu akan rosak. Ini merupakan cara cepat untuk merosakkan lampu tersebut.
Pada akhirnya, ini bermaksud peralihan daripada proses pemprosesan secara batch kepada proses pemprosesan secara berterusan. Anda perlu menukar alat pemampat biasa dengan alat yang lebih tepat. Jika anda ingin meningkatkan kapasiti pengeluaran, cara terbaik adalah dengan mengurangkan masa yang diperlukan untuk setiap proses pemprosesan.

Vakum on Pure Quartz Infrared Heaters

Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Pemanas inframerah untuk bilik vakum