<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Suhu/Thermal on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/ms/tags/suhu/thermal/</link>
		<description>Recent content in Suhu/Thermal on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 03:17:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/ms/tags/suhu/thermal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pita haba yang tahan suhu tinggi</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/ms/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 03:17:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/ms/posts/high-temperature-thermal-tape-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pita haba yang tahan suhu tinggi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan fotoresist bukan sekadar gangguan kecil pada graf SPC sahaja. Ia sebenarnya menyebabkan penurunan kadar pengeluaran. Kami menggunakan kaedah pemanasan berdasarkan gelombang inframerah pendek (NIR), kerana ia mampu memberikan haba yang &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;stabil&lt;/a&gt; dan cepat kepada permukaan wafer, tanpa perlu menyentuhnya secara langsung.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Tenaga&lt;/a&gt; NIR dapat menembusi wafer dan lapisan pita dengan cepat, jadi suhu dapat dicapai dengan cepat dan kekal stabil. Kecerunan suhu yang dicapai adalah sekitar ±0.1°C, yang memastikan dimensi wafer tetap konsisten selepas proses pendedahan. Sistem ini mampu mengendalikan proses pemanasan yang ringan mahupun &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;keras&lt;/a&gt;, dengan kawalan suhu yang ketat, sehingga variasi dalam proses peleburan bahan fotoresist dapat dikurangkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
