http://pure-quartz-ir-heater.com/ko/tags/%EC%B2%AD%EC%86%8C/ Recent content in 청소 on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo ko Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ko/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ko/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="청소 후 웨이퍼 건조 램프"></p> <p>실제로는, 세척 후의 헹굼 과정도 그 다음에 이어지는 건조 과정의 품질에 달려 있습니다. 열 제어가 제대로 이루어지지 않으면 물자국이나 표면 장력의 불균일성, 그리고 미세한 오염물들이 생길 수 있습니다. 우리는 세척 후의 이러한 변동성을 줄이기 위해 웨이퍼 건조용 램프 모듈을 개발했습니다. 그 덕분에 웨이퍼는 안정적이고 건조된 상태로 리소그래피 공정에 투입될 수 있습니다.</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/ko/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ko/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="청소한 후 웨이퍼를 어떻게 건조시키나요"></p> <p>생산 현장에서는, 클린룸에서 나온 웨이퍼가 완전히 건조될 때까지는 진정으로 깨끗한 상태라고 할 수 없습니다. 남아 있는 물방울 자국, 미세한 얼룩, 혹은 표면 장력의 불균일성은 이후에 포토레지스트 부착 문제나 리소그래피 과정에서의 결함으로 나타납니다. 프로세스의 정밀도가 2nm 이하로 낮아지면, 일반적인 회전식 건조 방식으로는 충분하지 않습니다. 그 원인은 바로 열입니다.</p>