http://pure-quartz-ir-heater.com/ja/tags/%E6%B8%85%E6%8E%83/ Recent content in 清掃 on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo ja Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ja/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="洗浄後のウェーハ乾燥ランプ"></p> <p>実際には、洗浄後の水気を拭き取る工程の効果は、その後の乾燥工程の質次第です。もし温度制御が不十分だと、水滴の跡や表面張力の不均一さ、微細な汚染が発生します。私たちは、洗浄後のこのような問題を解決するためにウェーハ乾燥用のランプモジュールを開発しました。これにより、ウェーハは安定した乾いた表面状態で、予測可能な温度履歴を持った状態でリソグラフィ工程に送られます。</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/ja/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/ja/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="清掃後のウェーハの乾燥方法"></p> <p>製造現場において、クリーニング工程を経たウェハも、完全に乾燥して初めて本当に清潔な状態と言えます。残留する水分や微小な汚れ、表面張力の<a href="https://henruite.com">不均一</a>さは、後工程でフォトレジストの付着不良やリソグラフィー時の欠陥として現れます。プロセスの精度が2nm未満になると、通常の回転式乾燥法では対応できません。その根本的な原因は熱です。</p> <h3 id="技術的に重要なのは何か">技術的に重要なのは何か？</h3> <p>私たちは、広範囲にわたる加熱の代わりに、NIRを利用した精密なエネルギー供給方式を採用しています。波長は基板ではなく、水の吸収ピークに合わせて調整されています。これにより、ウェハ全体の表面で±0.1℃という優れた熱的均一性が実現されます。 蒸発も予測可能になり、ウェハが損傷したり、フォトレジストからガスが放出されることもありません。この装置はクラス1～100のクリーンルーム環境で<a href="https://o-yate.net">使用</a>でき、稼働中に粒子が発生することはありません。</p>