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		<title>Secco on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
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		<description>Recent content in Secco on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
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				<title>Come asciugare la wafer dopo la pulizia</title>
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				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Come asciugare la wafer dopo la pulizia&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle strutture di produzione, un wafer che esce dalla fase di pulizia non è davvero pulito finché non è completamente asciutto. Qualsiasi traccia d’acqua residua, macchia microscopica o differenza di tensione superficiale può causare problemi di adesione del fotorestatto e difetti nella litografia. Quando la precisione del processo scende al di sotto dei 2 nm, il ciclo di essiccazione tradizionale non è più sufficiente. La causa principale di questi problemi è legata alle condizioni termiche.&lt;/p&gt;</description>
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