Vakum on Pure Quartz Infrared Heaters

Pemanas inframerah yang kompatibel dengan kondisi vakum

Sun, 19 Jul 2026 09:02:02 +0800

Mempertahankan Kebersihan dalam Proses Pemanasan di Lingkungan Vacuum
Jika Anda memanaskan suatu benda kerja di ruang bersih kelas 100 atau di chamber bervakum tinggi, Anda pasti tahu betapa berbahayanya situasi ini: satu butir debu sekalipun atau sedikit gas yang terlepas saja sudah cukup untuk merusak seluruh produk yang diproses.

Lampu IR standar tidak cocok digunakan untuk tujuan ini. Sebagian besar lampu tersebut menggunakan bahan perekat murahan atau kaca berkualitas rendah, sehingga gas-gas berbahaya akan keluar saat lampu tersebut panas. Hal ini tentu akan merusak wafer yang diproses dan menyebabkan pemborosan waktu yang besar.

Pemanas inframerah untuk chamber vakum

Fri, 17 Jul 2026 01:48:41 +0800

Berhentilah membuang waktu menunggu wafer Anda menjadi panas. Jika Anda masih mengandalkan sistem sirkulasi udara panas untuk proses pengolahan semikonduktor, berarti Anda sebenarnya sedang membayar “pajak waktu” yang mahal.

Coba pikirkan bagaimana cara kerja sistem udara panas. Anda perlu memanaskan seluruh ruangan terlebih dahulu, lalu memanaskan gasnya, dan setelah itu menunggu hingga panas tersebut meresap ke dalam wafer. Prosesnya lambat dan merepotkan.

Sistem pemanasan inframerah vakum tidak memerlukan tahapan-tahapan tersebut. Alih-alih menggunakan udara, sinar elektromagnetik dikirim langsung ke permukaan substrat. Prosesnya sangat cepat.