Sensor suhu untuk alat pemrosesan wafer

Sun, 12 Jul 2026 05:46:13 +0800

Mengamankan Penggunaan Lampu Pemanas Inframerah untuk Pembersihan Wafer
Sejujurnya, memasukkan lampu inframerah ke dalam alat yang berisi bahan kimia pembersih yang mudah terbakar atau meledak merupakan hal yang sangat berisiko. Sebuah percikan kecil atau retakan kecil pada bagian lampu saja sudah cukup untuk menyebabkan bencana.

Kita mengatasi masalah ini dengan menciptakan lapisan pelindung di sekitar komponen listriknya. Kita menggunakan bahan pengemas khusus dan resin epoksi untuk memastikan bahwa bahan kimia dan arus listrik tidak pernah bersentuhan.

Pabrik pita termal berkekuatan tinggi

Thu, 02 Jul 2026 03:17:45 +0800

Di lini produksi, fluktuasi suhu selama proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan fotoresist bukanlah hal yang sepele. Hal ini berdampak pada penurunan tingkat produksi. Kami mengembangkan solusi pemanas berbasis gelombang inframerah pendek (NIR), karena metode ini mampu memberikan panas yang stabil dan cepat ke permukaan substrat, tanpa perlu menyentuhnya secara langsung.

Yang penting dalam sistem ini: Energi NIR dapat menembus wafer dan lapisan perekat dengan cepat, sehingga suhu dapat dicapai dengan cepat dan tetap stabil. Konsistensi suhu mencapai ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, sehingga dimensi-dimensi kritis tetap terjaga setelah proses eksposur. Sistem ini mampu menangani proses pemanasan jenis “soft bake” maupun “hard bake” dengan kontrol suhu yang ketat, sehingga variasi suhu saat pemanasan berkurang.

Suhu on Pure Quartz Infrared Heaters

Sensor suhu untuk alat pemrosesan wafer

Pabrik pita termal berkekuatan tinggi