Mengapa kita beralih ke metode pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk wafer
Belakangan ini, ada dorongan yang kuat untuk menggunakan metode pengeringan berbasis sinar inframerah. Hal ini masuk akal. Mengapa harus repot-repot menggunakan pelarut kimia yang berbahaya atau menciptakan jejak karbon yang besar, padahal hal tersebut tidak perlu dilakukan?
Cara kerja sinar inframerah memang sangat cerdas. Alih-alih memanaskan seluruh ruang pemanggangan dan membuang-buang energi, sinar inframerah menggunakan gelombang elektromagnetik untuk menyerang permukaan wafer secara langsung. Dengan demikian, proses pengeringan menjadi lebih efisien.
Aspek “ramah lingkungan” dari metode ini
Jika Anda pernah menggunakan metode pengeringan konvensional, Anda pasti tahu betapa borosnya cara ini: udara panas disemprotkan ke segala arah. Itu merupakan pemborosan energi. Sinar inframerah berbeda. Ia menggunakan radiasi gelombang pendek yang langsung meresap ke lapisan pelindung atau fotoresist pada wafer. Hasilnya, suhu yang diinginkan dapat dicapai lebih cepat. Selain itu, karena tidak membutuhkan gas pembakaran atau katalis berbasis timbal untuk proses pengeringan, maka metode ini memenuhi kriteria “ramah lingkungan” yang dituntut oleh pabrik-pabrik modern saat ini.
Menyeimbangkan jarak dan suhu
Di sinilah letak tantangannya. Jarak antara lampu inframerah dan wafer sangat penting. Jika jaraknya terlalu dekat, akan terbentuk titik-titik panas, bahkan wafer bisa terbakar. Sebaliknya, jika jaraknya terlalu jauh, kecepatan pengeringan akan menurun, sehingga biaya produksi pun meningkat. Kita perlu meluangkan waktu untuk menyetel intensitas cahaya, sesuai dengan kebutuhan proses pengeringan.
Kita juga perlu memperhatikan kepadatan panas yang dihasilkan. Lampu kuarsa berkualitas tinggi memang menghasilkan panas yang tinggi, tetapi hal ini memberikan beban berat pada sistem pendingin. Jika sistem pendingin tidak mampu menangani panas tersebut, komponen elektronik akan rusak, dan hal ini akan menyebabkan masalah serius.
Realitasnya
Sinar inframerah memang merupakan metode yang baik, tetapi bukanlah solusi ajaib. Masalah utamanya adalah keseragaman proses pengeringan. Karena sinar inframerah bergerak lurus, adanya bayangan atau ketidaksejajaran lampu akan menyebabkan proses pengeringan yang tidak merata. Untuk mengatasi hal ini, diperlukan penyesuaian yang tepat agar wafer tetap rata.
Saya selalu menyarankan penggunaan kontroler PID berbasis siklus tertutup. Alat ini membantu menjaga stabilitas suhu, sehingga suhu tidak melebihi batas yang ditentukan saat proses pengeringan berlangsung.