http://pure-quartz-ir-heater.com/hi/tags/%E0%A4%B8%E0%A4%AB%E0%A4%BE%E0%A4%88/ Recent content in सफाई on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo hi Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/hi/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/hi/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="सफाई के बाद वेफर सूखाने हेतु लैंप"></p> <p>सफाई के बाद, वेफर को पूरी तरह सुखाने हेतु आवश्यक है कि उसकी सतह स्थिर एवं शुष्क रहे। यदि तापमान नियंत्रण ठीक से न हो, तो सतह पर पानी के निशान, सतही तनाव के अंतर, एवं सूक्ष्म संदूषण दिखाई देंगे। हमने ऐसा मॉड्यूल विकसित किया है, जिससे सफाई के बाद वेफर की सतह स्थिर एवं शुष्क रहे।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> इस मॉड्यूल में लघु-तरंगदैर्घ्य एवं मध्यम-तरंगदैर्घ्य वाले इन्फ्रारेड स्रोत हैं; ये क्वार्ट्ज-संवर्धित लैंपों में हैं, जिससे तेज एवं सतह-चयनात्मक तापन संभव होता है। वेफर के सतही तापमान को ±0.1°C की सीमा में बनाए रखा जाता है, एवं स्थानिक समानता भी इसी सीमा में ही रहती है। यह मॉड्यूल क्लास 1 के क्लीनरूमों में भी उपयोग के लिए उपयुक्त है; इसमें कम मात्रा में गैसें निकलती हैं, एवं कणों का नियंत्रण भी अच्छी तरह होता है। ऊर्जा घनत्व ऐसी ही है कि वेफर की सतह को जल्दी से सुखाया जा सके, बिना फोटोरेसिस्ट के तापमान पर कोई प्रभाव पड़े।</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/hi/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/hi/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="सफाई करने के बाद वेफर को कैसे सुखाएं"></p> <p>फैक्ट्री में, साफ करने के बाद निकलने वाला वेफर तब तक वास्तव में साफ नहीं होता, जब तक कि उस पर मौजूद पानी पूरी तरह सूख न जाए। पानी के अवशेष, सूक्ष्म दाग, या सतही तनाव के कारण लिथोग्राफी में समस्याएँ उत्पन्न हो सकती हैं। जब प्रक्रिया की सटीकता 2 नैनोमीटर से कम हो जाती है, तो मानक स्पिन-ड्राई प्रक्रिया पर्याप्त नहीं होती। इसका मूल कारण तापीय कारक है।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से, वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम, व्यापक स्पेक्ट्रम वाले तापन के बजाय एनआईआर का उपयोग करते हैं। एनआईआर की तरंगदैर्घ्य, पानी के अवशोषण बिंदु पर ही समायोजित की जाती है; सब्सट्रेट पर नहीं। इससे वेफर की पूरी सतह पर तापमान स्थिर रहता है – ±0.1°C।<br> इससे वेफर पर कोई झटका नहीं लगता, और फोटोरेसिस्ट से संबंधित समस्याएँ भी नहीं होतीं। यह प्लेटफॉर्म क्लास 1–100 क्लीनरूमों में उपयोग हेतु उपयुक्त है, एवं ऑपरेशन के दौरान कोई कण-संबंधी समस्याएँ नहीं होतीं।</p>