<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>איך on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/he/tags/%D7%90%D7%99%D7%9A/</link>
		<description>Recent content in איך on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/he/tags/%D7%90%D7%99%D7%9A/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>כיצד לייבש את הוופר לאחר ניקויו</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/he/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/he/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;כיצד לייבש את הוופר לאחר ניקויו&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;בחדרי הייצור, וופר שיוצא מתהליך הניקוי אינו נחשב כנקי באמת עד שהוא יבש לחלוטין. כל שאריות של מים, כתמים זעירים או שינויים במתח הפני השטח יגרמו לבעיות בהדבקת החומרים הדרושים לתהליך הליתוגרפיה, וכן לפגמים בוופר. כאשר טווח העבודה יורד מתחת ל-2 ננומטר, שיטת הייבוש הרגילה כבר אינה מספיקה. הסיבה העיקרית היא החום.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;מה-באמת-חשוב-מבחינה-טכנית&#34;&gt;מה באמת חשוב מבחינה טכנית?&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;אנו מחליפים שימוש בחימום באורך גל רחב בשימוש באנרגיה ממוקדת באמצעות אור באורך גל קצר. אורך הגל מותאם לנקודת הספיגה של המים, ולא לחומר שעליו עובדים. כך ניתן להשיג אחידות תרמית של ±0.1°C על כל שטח הוופר.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
