http://pure-quartz-ir-heater.com/fr/tags/comment/ Recent content in Comment on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo fr Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/fr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/fr/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Comment sécher la wafer après nettoyage"></p> <p>Dans les usines de fabrication, une wafer qui sort de l’étape de nettoyage n’est vraiment propre que lorsqu’elle est complètement sèche. Toute trace d’eau restante, toute tache microscopique ou gradient de tension superficielle peut provoquer des problèmes d’adhésion du photo-résistant et des défauts sur la wafer lors de la lithographie. Lorsque la précision du processus diminue en dessous de 2 nm, le cycle de séchage standard ne suffit plus. La cause profonde est thermique.</p>