<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>تنش on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%AA%D9%86%D8%B4/</link>
		<description>Recent content in تنش on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 02:53:46 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%AA%D9%86%D8%B4/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>پیشگرمکن برای اندازهگیری کشش سطحی وافر</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 02:53:46 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/wafer-surface-tension-measurement-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;پیشگرمکن برای اندازهگیری کشش سطحی وافر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دما در حد نیم درجه سانتی‌گراد در طول فرآیندهای پخت، خطای کوچکی محسوب نمی‌شود. چنین تغییراتی باعث تغییر در جریان رزیست فتوگرافیک می‌شود؛ همچنین کنترل ابعاد حیاتی قطعات را مختل کرده و باعث می‌شود عملکرد قطعات خارج از استانداردهای مورد نظر باشد. در خط تولید، این موضوع منجر به افزایش مقدار ضایعات، نیاز به بازسازی قطعات و تأخیر در برنامه‌های تولید می‌شود. ما هیترهای مورد استفاده برای اندازه‌گیری تنش سطحی ویفرها را طوری طراحی کرده‌ایم که از بروز تغییرات حرارتی جلوگیری کنند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
