<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>تمیزکاری on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%AA%D9%85%DB%8C%D8%B2%DA%A9%D8%A7%D8%B1%DB%8C/</link>
		<description>Recent content in تمیزکاری on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%AA%D9%85%DB%8C%D8%B2%DA%A9%D8%A7%D8%B1%DB%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ خشککن ویفر پس از تمیزکاری</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;لامپ خشککن ویفر پس از تمیزکاری&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در مرحله شستشو، کیفیت کل فرآیند تنها به اندازه مرحله خشک‌کردن مهم است. اگر کنترل دما مناسب نباشد، ردپاهای آب، تفاوت‌های تنش سطحی و آلودگی‌های ریز روی سطح وجود خواهد داشت. ما ماژول خشک‌کننده ویفرها را به گونه‌ای طراحی کرده‌ایم که این نوسانات را پس از شستشو از بین ببرد؛ بنابراین ویفر با سطحی پایدار و خشک، و همچنین دمایی قابل پیش‌بینی، وارد مرحله لیتوگرافی می‌شود.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;آنچه واقعاً اهمیت دارد&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;این ماژول، منابع مادون قرمز با امواج کوتاه و متوسط را در یک پکیج لامپی ترکیب کرده است؛ این پکیج برای گرم کردن سریع و انتخابی سطح ویفر طراحی شده است. ما تکرارپذیری دما را در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد حفظ می‌کنیم؛ همچنین یکنواختی فضایی نیز در همین محدوده باقی می‌ماند. این ماژول سازگار با محیط‌های تمیز است؛ مواد مورد استفاده در ساخت آن نیز دارای میزان گاز خروجی کمی هستند، و مسیر جریان هوا نیز به گونه‌ای طراحی شده که تولید ذرات در حین عملکرد صفر باشد. چگالی انرژی نیز به گونه‌ای تنظیم شده که لایه شستشو را به سرعت از بین ببرد، بدون اینکه دمای ویفر بیش از حد افزایش یابد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
