<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>الیپسومتری on Pure Quartz Infrared Heaters</title>
		<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%A7%D9%84%DB%8C%D9%BE%D8%B3%D9%88%D9%85%D8%AA%D8%B1%DB%8C/</link>
		<description>Recent content in الیپسومتری on Pure Quartz Infrared Heaters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:31:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/tags/%D8%A7%D9%84%DB%8C%D9%BE%D8%B3%D9%88%D9%85%D8%AA%D8%B1%DB%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>گرمکن پروب ویفر برای الیپسومتری</title>
				<link>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:31:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://pure-quartz-ir-heater.com/fa/posts/ellipsometry-wafer-probe-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://pure-quartz-ir-heater.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;گرمکن پروب ویفر برای الیپسومتری&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، حتی انحراف نیم درجه‌ای در طول فرآیند پخت ملایم، می‌تواند باعث تغییر در ضخامت لایه فوتورزیست شود. هیتر مورد استفاده برای اندازه‌گیری ضخامت وجه سیلیکونی، به گونه‌ای طراحی شده که از ایجاد چنین انحرافاتی جلوگیری کند. این هیتر بر اساس شرایط حرارتی مربوط به خشک کردن وجه سیلیکونی، پخت اولیه فوتورزیست و پخت پس از قرار دادن وجه سیلیکونی در معرض نور، طراحی شده است؛ در این شرایط، یکنواختی دما، تأثیر مستقیمی بر ساختار دستگاه دارد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
