http://pure-quartz-ir-heater.com/de/tags/trocken/ Recent content in Trocken on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo de Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/de/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/de/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Wie man Wafer nach der Reinigung trocknet"></p> <p>Auf der Produktionsfläche ist ein Wafer, der aus dem Reinigungsprozess kommt, erst dann wirklich sauber, wenn er völlig trocken ist. Jegliche verbleibenden Wasserspuren, Mik befleckungen oder Spannungsrückstände auf der Oberfläche führen später zu Problemen bei der Haftung des Photoresists sowie zu Defekten während der Lithografie. Wenn das Prozessfenster unter 2 nm sinkt, reicht der herkömmliche Spin-Trocknungsprozess nicht mehr aus. Die Ursache liegt dabei im thermischen Effekt.</p> <p><strong>Was technisch wirklich wichtig ist:</strong><br> Anstelle einer allgemeinen Erwärmung wird hier eine gezielte Energiezufuhr mittels Infrarotstrahlung verwendet. Die Wellenlänge wird so gewählt, dass sie auf den Wasserabsorptionspeak abgestimmt ist – nicht auf die Eigenschaften des Substrats. Dadurch wird eine thermische Homogenität von ±0,1°C auf der gesamten Oberfläche des Wafers erreicht. Die Verdunstung wird somit vorhersehbar – ohne dass der Wafer beeinträchtigt wird oder der Photoresist ausgasen muss. Die Anlage ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 konzipiert und arbeitet ohne jegliche Partikelprobleme.</p>