Wafle on Pure Quartz Infrared Heaters

Žhavicí prvek pro oxidaci waferu

Mon, 06 Jul 2026 03:56:47 +0800

Úvod

Přejděme rovnou k věci. Při oxidaci polovodičových desek není topný prvek jen další součástí sady komponentů – je to samotné „srdce“ pece. Proto jsme se rozhodli vyrobit si vlastní halogenové topné lampy přímo doma. Průmysl totiž potřeboval zařízení, které by dokázalo zvládnout extrémní teploty bez jakýchkoliv problémů. Cílem bylo udržet teplotu na desce co nejrovnoměrněji – v rozmezí pouhých ±0,1 °C.

Jak se nám to podařilo? Kombinací vysokého napětí, kompaktní konstrukce a odolných materiálů. Výsledkem je náhrada, která funguje stejně dobře jako importované lampy, ale z dlouhodobého hlediska stojí méně.

Náklady na červenofialovou žárovku pro ohřívání destiček

Wed, 01 Jul 2026 06:58:07 +0800

V prostředí lithografie víte, jak rychle se věci mohou pokazit. I malá odchylka o půl stupně může ovlivnit kritické rozměry desky. Pokud během procesu selže žárovka, celý proces se zastaví. Skutečné náklady na žárovku určenou k ohřevu desek v infračerveném spektru nejsou pouze cena samotné žárovky – zahrnují také neplánované přestávky v provozu, zmetkové desky a energetické náklady spojené s udržováním stability procesu.

Co je opravdu důležité Tyto NIR žárovky jsou navrženy s využitím krátkovlnného infračerveného emitoru, který je přizpůsoben absorpci fotorezistu. Díky tomu lze dosáhnout rychlého a předvídatelného zvýšení teploty na desce. Udržujeme termální jednotnost na úrovni ±0,1 °C. Opakovatelnost výsledků je zajištěna geometrií žárovky, regulací výkonu a stabilitou emisivity. Konstrukce žárovky je vhodná pro použití v čistých prostorách tříd 1–100. Materiály a konstrukce žárovky jsou vybrány tak, aby se minimalizovala tvorba částic. V praxi to znamená méně vad a stabilní teploty během procesu.

Ohřívač pro měření povrchového napětí waferu

Mon, 29 Jun 2026 02:53:47 +0800

V litografii není odchylka o půl stupně Celsia během procesu zahřívání „malou chybou“. Tato odchylka narušuje průtok fotorezistoru, zhoršuje kontrolu kritických rozměrů a vede k tomu, že výsledný výstup není v požadovaných parametrech. V praxi to znamená odpad, nutnost oprav a zpoždění v termínech výroby. Naše zařízení na měření povrchového napětí destiček je navrženo tak, aby zabránilo tepelným odchylkám již v jejich počáteční fázi.

Co je technicky důležité
Používáme krátkovlnné infračervené členy v konstrukci na bázi křemíku – díky tomu je ohřev rychlý a čistý, bez rizika vzniku částic. V celé aktivní oblasti zůstává rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C a opakovatelnost zůstává konstantní i při opakovaném použití. Nahřívací zařízení je určeno k použití v čistých prostorách třídy 1–100 – má materiály s nízkou mírou uvolňování plynů a povrchovou úpravu, která snižuje množství částic. Lze ho snadno integrovat do existujících zařízení na nanášení a zahřívání vrstev.

Elipsometrický ohřívač sondy waferu

Fri, 26 Jun 2026 01:31:43 +0800

V prostředí litografie stačí půlobvodová odchylka během měkkého zahřívání k tomu, aby se kontrolovaný profil fotorezisty změnil v odchylku v tloušťce. Ohřívač sondy na bázi elipsometrie byl navržen tak, aby tuto odchylku zabránil ještě předtím, než vznikne. Byl navržen s ohledem na termální podmínky během sušení destiček, předzahřívání fotorezisty a zahřívání po expozici – kde právě rovnoměrnost teploty určuje geometrii zařízení.

Co je důležité uvnitř zařízení
Je zde krátkovlnný infračervený emitér spolu s termickou cestou stabilizovanou kvarcem, která zajišťuje rovnoměrnost teploty na úrovni destičky v rozsahu ±0,1 °C po celé ploše sondy. Změny nastavení se projeví okamžitě, s odezvou do několika milisekund a bez nadměrných odchylek. Zařízení je kompatibilní s prostředím čistých místností až do třídy 1 – používají se materiály a povrchové úpravy, které zabraňují vzniku částic. Výstupní hodnota zůstává stabilní v rozsahu 1 % po dobu více než 5 000 hodin, takže může fungovat 24/7 s intervaly údržby, které lze plánovat.