http://pure-quartz-ir-heater.com/cs/tags/%C4%8Di%C5%A1t%C4%9Bn%C3%AD/ Recent content in Čištění on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo cs Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/cs/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/cs/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampa na sušení waferů po čištění"></p> <p>V praxi záleží na tom, jak kvalitní je celý proces oplachu po čištění – vše závisí na kroku sušení, který následuje. Pokud není termální kontrola dostatečná, objeví se stopy vody, gradienty povrchového napětí a mikrokontaminace. Naše modulové řešení pro sušení destiček eliminuje tyto problémy po čištění, takže destička přichází do fáze litografie s stabilním, suchým povrchem a předvídatelnými termickými parametry.</p> <p><strong>Co je opravdu důležité</strong> Modul spojuje zdroje krátkovlnného a střednovlnného infračerveného záření v lampě s kvartovými prvky, což umožňuje rychlé a selektivní ohřev povrchu. Dokážeme udržet cílovou teplotu v rozmezí ±0,1 °C na celé ploše destičky, stejně jako prostorovou jednotnost. Modul je kompatibilní s čistých místnostmi až do třídy 1 – používají se materiály s nízkou emisí plynů a proudění vzduchu je kontrolované, takže během provozu nevznikají žádné částice. Hustota energie je kalibrována tak, aby se film po oplachu rychle odstranil, aniž by došlo k překročení termálních limitů fotorezistu.</p>