http://pure-quartz-ir-heater.com/bn/tags/%E0%A6%AA%E0%A6%B0%E0%A6%BF%E0%A6%B7%E0%A7%8D%E0%A6%95%E0%A6%BE%E0%A6%B0-%E0%A6%95%E0%A6%B0%E0%A6%BE/ Recent content in পরিষ্কার করা on Pure Quartz Infrared Heaters Hugo bn Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/bn/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ Tue, 30 Jun 2026 01:38:56 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/bn/posts/wafer-drying-lamp-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="পরিষ্কার করার পর ওয়েফার শুকানোর জন্য ল্যাম্প।"></p> <p>প্রক্রিয়াটি সঠিকভাবে সম্পন্ন হতে হলে, পরিষ্কার করার পরের ধোয়ার প্রক্রিয়াটি ঠিক ততটাই গুরুত্বপূর্ণ, যতটা পরবর্তী শুকানোর প্রক্রিয়াটি। যদি তাপ-নিয়ন্ত্রণ ঠিকমতো না হয়, তাহলে জলের চিহ্ন, পৃষ্ঠের টান এবং অণু-দূষণ দেখা দেবে। আমরা আমাদের ওয়েফার শুকানোর যন্ত্রটিকে এমনভাবে ডিজাইন করেছি, যাতে পরিষ্কার করার পর ওয়েফারটি একটি স্থিতিশীল, শুকনো পৃষ্ঠ এবং নির্দিষ্ট তাপ-অবস্থার সাথে লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত হয়।</p> <p><strong>আসলে কী গুরুত্বপূর্ণ?</strong><br> এই যন্ত্রটিতে শর্ট-ওয়েভ ও মিডিয়াম-ওয়েভ ইনফ্রারেড রশ্মি ব্যবহৃত হয়েছে; এগুলো কোয়ার্টজ-সহায়তাপূর্ণ ল্যাম্পে ব্যবহৃত হয়। এর ফলে ওয়েফারের পৃষ্ঠটি দ্রুত ও নির্দিষ্টভাবে উত্তপ্ত হয়। ওয়েফারের তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে; আর পৃষ্ঠের সমতাও একই মানে থাকে। এই যন্ত্রটি ক্লাস 1 স্ট্যান্ডার্ডের ক্লিনরুমে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত; এতে কম গ্যাস নির্গত হয়, আর কণাগুলো নিয়ন্ত্রিত অবস্থায় থাকে। পাওয়ার ডেনসিটি এমনভাবে সেট করা হয়েছে, যাতে ধোয়ার প্রক্রিয়া দ্রুত সম্পন্ন হয়, আর ফটোরেসিস্টের তাপ-অবস্থা নষ্ট না হয়।</p> http://pure-quartz-ir-heater.com/bn/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ Thu, 25 Jun 2026 01:29:01 +0800 http://pure-quartz-ir-heater.com/bn/posts/how-to-dry-wafer-after-cleaning/ <p><img src="http://pure-quartz-ir-heater.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="পরিষ্কার করার পর ওয়েফারগুলোকে কীভাবে শুকানো যায়"></p> <p>ফ্যাব লেভেলে, ক্লিনিং প্রক্রিয়ার পর যে ওয়েফারটি বের হয়, তা সত্যিকার অর্থে পরিষ্কার হয় না—যতক্ষণ না এটি সম্পূর্ণরূপে শুকনো না হয়। অবশিষ্ট জল, সূক্ষ্ম দাগ বা পৃষ্ঠের টেনশনের কারণে লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায় সমস্যা দেখা দেয়। যখন প্রক্রিয়াটি ২ ন্যানোমিটারের নিচে চলে যায়, তখন সাধারণ স্পিন-ড্রাই পদ্ধতি আর কাজ করতে পারে না। এর মূল কারণ হলো তাপ।</p> <h3 id="পরযকতগতভব-ক-গরতবপরণ">প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?</h3> <p>আমরা ব্রড-স্পেকট্রাম হিটিংএর পরিবর্তে NIR ব্যবহার করি। এর তরঙ্গদৈর্ঘ্যটি জলের শোষণ বিন্দুর সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ; সাবস্ট্রেটের সাথে নয়। এর ফলে ওয়েফারের পুরো পৃষ্ঠে তাপীয় সমানতা ±০.১°C থাকে। এর ফলে বাষ্পীভবন প্রক্রিয়াটি নির্ভরযোগ্য হয়ে ওঠে; ওয়েফারে কোনো ধরনের ক্ষতি হয় না, আর ফটোরেসিস্ট থেকে কোনো গ্যাস নির্গত হয় না। এই প্ল্যাটফর্মটি ক্লাস ১–১০০ ক্লিনরুমে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত; এটি চালানোর সময় কোনো ধরনের কণা উৎপন্ন হয় না।</p>