300mm’lik bir wafer’ın son durulamasından çıktığını izleyin. Yüzeyde herhangi bir su kalırsa, doğrudan fotoresist pişirme aşamasına taşınır ve bu nem bir defekti oluşturur. Class 1–100 temiz oda ortamında, kurutucu ampul sadece bir ısıtıcı değildir. Aynı zamanda bir proses kontrol noktasıdır.
Kaputun altında gerçekten önemli olan
Yüksek verimli wafer kurutucu ampulü, stabil kızılötesi çıkış ve sıkı termal kontrol etrafında tasarlandı. Halojen eleman kuartz içinde kapalıdır ve eşleşen gerilim ve konektör arabirimi üzerinden beslenir, böylece lamba gövdesi ekipmanlar arasında mekanik olarak tutarlı kalır.
Wafer seviyesinde sıcaklık uniformitesi pişirme bölgesinde ±0.1°C içinde tutulur; böylece soft bake ve hard bake profilleri vardiya değişimlerinde spesifikasyonlar dahilinde tekrarlanır. Ampul sıfır parçacık üretimi ile çalışır ve temiz oda hava akımı ile egzoz kısıtlamalarıyla uyumludur; ısınma veya sabit çalışma sırasında parçacık sayılarında artış olmaz.
Neden litografi alanında bu önemlidir
Litografi tekrarlanabilirlik üzerine kuruludur ve fotoresist işlemi termal sapmaya tolerans göstermez. Bu ampul ile aynı termal bütçeyi parti parti kullanırsınız: kritik boyutlar merkezde kalır, edge bead temizliği öngörülebilir şekilde gerçekleşir ve hat daha az revizyon ve hurda ile karşılaşır.
Hızlı termal tepki waferlar arasındaki bekleme süresini azaltır ve yüksek elektrikten radyan verimliliği sıcaklık stabilitesinden ödün vermeden enerji tüketimini düşürür. Değişim aralıkları uzar, plansız duruşlar azalır.
Montaj ve değişim sırasında dikkat edilmesi gerekenler
Ampul doğru yönlendirme ve wafer chuck ile uygun boşluk sağlanarak takılmalıdır. Yanlış fikstür toleransına göre yeniden ampul takmak, sıcak bölgeyi kaydırabilir ve uniformiteyi bozabilir.
Değişim öncesinde ekipmanın gerilim aralığı ve soğutma profili doğrulanmalıdır; maksimum çıkış ancak sistem dengede olduğunda güvenilirdir. Bakım planlaması programlı duruşlar sırasında yapılmalı, termal profilde sapmayı telafi etmek için ampul aşırı sürülmemelidir.