Bij het verwerken van displaysdrivers mogen er geen fouten optreden door thermische schommelingen. Zelfs een afwijking van maar 0,5°C tijdens het bakproces kan al leiden tot problemen met de dikte van de fotoresistlaag. Hierdoor neemt ook de mogelijkheid om nauwkeurig te werken af.
In de droogkamer kan vocht dat niet volledig wordt verwijderd, leiden tot microbruggen in het materiaal. Dit wordt pas duidelijk nadat er wekenlang productieproblemen optreden. Wij hebben onze infraroodverwarmers ontworpen om deze problemen te voorkomen: er mag geen sprake zijn van thermische schommelingen, en de nauwkeurigheid moet hoog blijven.
Wat technisch gezien belangrijk is: Wij gebruiken kortegolf-infrarode straling met kwartsemitters die snel reageren. Op 200 mm en 300 mm grote wafers wordt een uniformiteit van ±0,1°C behaald. De temperatuurconsistentie tijdens het bakproces is ±0,2°C. Hierdoor blijft de kwaliteit van de fotoresistlaag constant, zonder dat er extra instellingen nodig zijn.
De apparaten worden gebruikt in schoonruimtes van klasse 1–100, waar geen deeltjes kunnen ontstaan. De energieverbruik wordt aangepast aan de behoeften, en de thermische parameters blijven binnen 10 ms constant. Dit beschermt de dunne lagen tegen thermische stress.
Waarom dit nuttig is bij het verwerken van displaysdrivers: De componenten zijn gevoelig voor thermische schommelingen: lage-k dielektrica, dunne metalenlaagjes, kleine afstanden tussen onderdelen. Daarom moet de thermische controle nauwkeurig zijn. Met onze infraroodverwarmers blijft de kwaliteit van de fotoresistlaag constant. Hierdoor worden er minder herwerkingen nodig, en kan de productie efficiënter verlopen.
Het drogen van de wafers gebeurt op een consistente manier, waardoor de defectdichtheid verminderd wordt en de kwaliteit van de lithografie verbetert. Hierdoor is het mogelijk om de cruciale dimensions nauwkeuriger te bepalen, en is er minder risico op fouten.
Dingen om te weten voordat je het toepast: De verwarmer past zich gemakkelijk aan in bestaande apparaten, maar de alignering moet nauwkeurig zijn. De afstand tussen de emitter en de wafer moet binnen ±0,5 mm blijven, zodat de uniformiteit behouden blijft.
Het is belangrijk om de thermische eigenschappen van de drager en de emissiviteit van de achterkant van de wafer goed te bepalen. Plan eerst een kort testproces om de optimale instellingen te vinden. Eenmaal ingesteld, kan de apparatuur 24/7 draaien met minimale onderhoudskosten. De lampen zijn ontworpen om meer dan 5.000 uur lang stabiel te werken.