Dalam proses pembersihan, kualiti keseluruhan proses tersebut bergantung sepenuhnya pada langkah pengeringan yang dijalankan seterusnya. Jika kawalan suhu tidak dilakukan dengan baik, maka akan timbul kesan-kesan seperti kesan air, perbezaan ketegangan permukaan, dan kekotoran mikro. Kami telah mencipta modul lampu pengeringan yang dapat mengatasi masalah-masalah ini setelah proses pembersihan selesai. Dengan cara ini, permukaan wafer akan tetap kering dan stabil dari segi suhu sebelum proses litografi dimulakan.
Apa yang benar-benar penting
Modul ini menggunakan sumber inframerah gelombang pendek dan sederhana dalam satu paket lampu yang diperkuat oleh bahan kuarsa. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan selektif pada permukaan wafer. Kita dapat mengekalkan suhu yang stabil pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, manakala keseragaman spatial juga berada dalam julat yang sama. Reka bentuk modul ini sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1, dengan bahan-bahan yang menghasilkan gas yang sedikit, serta aliran udara yang terkawal, sehingga tidak ada pembentukan zarah semasa operasi berjalan. Ketumpatan tenaga lampu dipertahankan agar lapisan air dapat dibersihkan dengan cepat, tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan untuk photoresist.
Mengapa ini sesuai untuk proses tersebut
Selepas proses pembersihan, wafer perlu dikeringkan sepenuhnya sebelum proses spin dan bake dilakukan. Lampu ini mampu mengeringkan wafer dalam masa beberapa saat sahaja, jadi masa yang diperlukan untuk proses tersebut dapat dikurangkan tanpa menyebabkan tekanan termal pada wafer. Proses pemanggangan juga akan lebih stabil kerana permukaan wafer tetap kering, tanpa adanya air yang boleh mengganggu proses penyejatan pelarut. Repeatabiliti proses akan bertambah baik, dan masa henti yang tidak dijangka dapat dikurangkan kerana modul ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan prestasi yang stabil selama lebih dari 5,000 jam.
Nota penting yang akan membantu anda nanti
Pemasangan modul ini memerlukan penyesuaian yang tepat terhadap sistem pengudaraan di bilik proses, serta pengesahan kestabilan voltan pada terminal lampu. Intensiti cahaya yang dihasilkan oleh lampu ini sangat sensitif terhadap posisi lampu tersebut. Oleh itu, tetapkan kedudukan lampu sekali sahaja, catatkan nilainya, dan pastikan ia tetap stabil. Lampu ini akan berfungsi dengan optimum apabila kelembapan di bilik bersih berada dalam julat yang ditetapkan. Jika kelembapan keluar dari julat tersebut, masa pengeringan akan berubah. Lakukan kalibrasi intensiti cahaya secara berkala agar repeatabiliti tetap pada tahap ±0.1°C, sekaligus memastikan proses pengeringan berjalan dengan baik.