Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan fotoresist bukan sekadar gangguan kecil pada graf SPC sahaja. Ia sebenarnya menyebabkan penurunan kadar pengeluaran. Kami menggunakan kaedah pemanasan berdasarkan gelombang inframerah pendek (NIR), kerana ia mampu memberikan haba yang stabil dan cepat kepada permukaan wafer, tanpa perlu menyentuhnya secara langsung.
Apa yang penting
Tenaga NIR dapat menembusi wafer dan lapisan pita dengan cepat, jadi suhu dapat dicapai dengan cepat dan kekal stabil. Kecerunan suhu yang dicapai adalah sekitar ±0.1°C, yang memastikan dimensi wafer tetap konsisten selepas proses pendedahan. Sistem ini mampu mengendalikan proses pemanasan yang ringan mahupun keras, dengan kawalan suhu yang ketat, sehingga variasi dalam proses peleburan bahan fotoresist dapat dikurangkan.
Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, kerana ia menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan sedikit zarah, serta reka bentuk yang meminimumkan pelepasan gas. Pemanas tersebut beroperasi pada suhu tinggi setiap hari, dan prestasinya tetap konsisten walaupun setelah ribuan kali penggunaan.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran
Proses pengeringan dan pemanasan diperlukan setelah langkah-langkah pembersihan, agar hasil pengeluaran tetap konsisten setiap kali. NIR membolehkan pemberian haba secara tepat pada masa yang diperlukan, sehingga masa yang diperlukan untuk proses pemanasan berkurangan, dan penggunaan tenaga juga berkurangan, tanpa mengorbankan konsistensi suhu. Ini bermakna kawalan dimensi wafer menjadi lebih baik, jumlah produk yang perlu diperbaiki berkurangan, dan kelajuan pengeluaran dapat dipastikan.
Antaramuka antara pita pemanas dan wafer tetap stabil walaupun melalui beberapa proses pengeluaran, jadi kontak termal tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Apa yang perlu diperhatikan
NIR memerlukan pandangan lurus antara sumber cahaya dan permukaan wafer; jadi tidak boleh ada celah-celah di antaranya. Pita pemanas perlu mempunyai ketebalan dan daya lekat yang seragam di seluruh permukaan wafer; jika tidak, akan timbul kawasan panas di permukaan wafer. Anda perlu merancang aliran udara yang terkawal serta penghalang untuk mengelakkan pantulan cahaya yang tidak diinginkan.
Kami menyediakan panduan pemilihan pita pemanas dan cara menggunakannya. Saya cadangkan agar anda melakukan ujian singkat sebelum menggunakan sistem ini secara penuh.