Durante la fase di risciacquo, l’efficacia dell’intero processo dipende interamente dalla qualità della fase di essiccazione che segue. Se il controllo termico non è preciso, si possono verificare segni causati dall’acqua, gradienti di tensione superficiale e microcontaminazioni. Abbiamo progettato il nostro modulo per l’essiccazione dei wafer proprio per eliminare queste variabili dopo la pulizia, in modo che il wafer venga inviato alla fase di litografia con una superficie stabile e asciutta, nonché con caratteristiche termiche prevedibili.
Quello che è davvero importante
Il modulo combina sorgenti infrarosse a onde corte e medie all’interno di un dispositivo realizzato in quarzo, progettato per un riscaldamento rapido e selettivo sulla superficie del wafer. Riusciamo a mantenere una precisione nella temperatura di riscaldamento entro i ±0,1°C su tutta la superficie del wafer; anche l’uniformità spaziale è mantenuta entro gli stessi limiti. Il dispositivo è compatibile con ambienti di tipo “clean room” di classe 1: utilizza materiali con bassa emissione di gas e sistema di ventilazione che controlla le particelle presenti nell’aria, garantendo così zero generazione di particelle durante il funzionamento. La densità di potenza è calibrata in modo da eliminare rapidamente lo strato d’acqua presente sulla superficie del wafer, senza superare i limiti termici del fotoresist.
Perché questo sistema è ideale
Dopo la pulizia, è necessario disporre di un wafer asciutto e privo di contaminanti prima di procedere con la fase di applicazione del fotoresist. Questo lampada permette di essiccare il wafer in pochi secondi, riducendo così i tempi di ciclo senza sottoporre il wafer a stress termici. I profili di riscaldamento rimangono stabili, poiché la superficie del wafer è omogenea: non ci sono acque nascoste che possano influenzare l’evaporazione dei solventi. La ripetibilità del processo migliora, e i tempi di fermata imprevisti diminuiscono, grazie al fatto che il modulo è progettato per funzionare 24/7, con prestazioni stabili per oltre 5.000 ore.
Note utili per l’utilizzo
L’installazione richiede un’allineamento preciso rispetto all’impianto di aspirazione presente nella camera di processo, nonché una stabilità di tensione nei terminali del lampada. L’intensità della luce emessa dipende dalla posizione del lampada: è quindi necessario impostarla una volta sola, documentarne i valori e mantenerli costanti. Il lampada funziona al meglio quando l’umidità nell’ambiente di lavoro è compresa entro i limiti previsti dal processo; al di fuori di questi limiti, il tempo di essiccazione aumenta. È consigliabile effettuare regolarmente delle calibrazioni per mantenere la precisione richiesta, ovvero entro i ±0,1°C.