Pada tahap produksi chip driver display, wafer tersebut tidak toleran terhadap perubahan suhu yang signifikan. Jika suhu selama proses pemanggangan berbeda sebesar 0,5°C saja, ketebalan lapisan fotoresist akan berubah. Hal ini akan mengakibatkan penurunan kualitas produk.
Di ruang pengeringan, kelembapan yang belum sepenuhnya dihilangkan dapat menyebabkan terbentuknya struktur mikro yang merusak kualitas produk. Kondisi ini baru akan terlihat setelah beberapa minggu berlalu. Kami menciptakan pemanas inframerah khusus untuk mengatasi masalah-masalah ini—dengan kontrol suhu yang ketat, tanpa adanya penyimpangan suhu, dan dengan tingkat repetibilitas yang tinggi.
Apa yang penting secara teknis? Kami menggunakan pemanas inframerah gelombang pendek dengan emitor kuarsa yang responsif cepat. Pada wafer berukuran 200 mm dan 300 mm, tingkat keseragaman suhu pada setiap wafer dapat dicapai hingga ±0,1°C. Tingkat repetibilitas suhu antara setiap proses pemanggangan adalah ±0,2°C. Dengan demikian, proses pemanggangan dan pengeringan wafer dapat berjalan sesuai target tanpa perlu penyesuaian berulang-ulang.
Pemanas ini digunakan di ruang bersih kelas 1–100, di mana tidak ada partikel debu sama sekali, sebagaimana yang ditunjukkan oleh sistem pemantauan partikel secara real-time. Konsumsi energi pun disesuaikan sesuai resep produksi, dan pola kenaikan suhu berlangsung dalam waktu 10 ms. Hal ini melindungi lapisan tipis pada wafer dari tekanan termal.
Mengapa hal ini penting dalam proses pembuatan chip driver display? Lapisan-lapisan pada wafer sangat sensitif; bahan dielektrik bertekstur rendah, logam yang tipis, serta jarak antar elemen-elemen tersebut yang sangat kecil. Oleh karena itu, kontrol suhu harus dilakukan dengan sangat ketat. Dengan penggunaan pemanas inframerah, kinerja fotoresist tetap stabil. Hal ini mengurangi kebutuhan untuk melakukan proses perbaikan, dan mempermudah proses perpindahan antar produk.
Proses pengeringan wafer dilakukan secara konsisten, sehingga tingkat kecacatan berkurang dan kualitas litografi tetap stabil. Hasilnya adalah kontrol dimensi yang lebih baik, pengurangan fenomena defokus, serta proses produksi yang dapat diprediksi dari shift ke shift.
Hal-hal yang perlu diketahui sebelum menggunakannya: Pemanas ini dapat digunakan pada alat-alat yang sudah ada, tetapi penyetelan posisinya harus sangat tepat. Jarak antara emitor dan wafer harus tetap berada dalam rentang ±0,5 mm agar keseragaman suhu terjaga.
Perlu juga dipastikan bahwa massa termal dari alat pembawa panas dan emisivitas permukaan belakang wafer sesuai. Lakukan uji coba singkat untuk menentukan laju kenaikan suhu dan waktu pemanggangan yang tepat. Setelah itu, pemanas ini dapat beroperasi 24/7 dengan perawatan yang minim. Lampu pemanas ini dirancang untuk beroperasi selama lebih dari 5.000 jam dengan output yang stabil.