En réalité, toute étape de rinçage post-nettoyage n’est efficace que si l’étape de séchage qui suit est bien maîtrisée. Si le contrôle thermique est insuffisant, on observe des marques d’eau, des gradients de tension superficielle et des micro-contaminations. Nous avons conçu notre module de séchage pour éliminer ces variations après le nettoyage, afin que la wafer dispose d’une surface sèche et stable, ainsi que d’un historique thermique prévisible.
Ce qui est vraiment important Le module combine des sources infrarouges à courte et moyenne longueur d’onde dans un système basé sur du quartz, ce qui permet un chauffage rapide et ciblé de la surface. Nous parvenons à maintenir une répétabilité de température de ±0,1°C sur toute la surface de la wafer. L’uniformité spatiale est également assurée au même niveau de précision. Le module est compatible avec des bureaux propres de classe 1, avec des matériaux à faible émission de gaz et un flux d’air contrôlé, ce qui permet d’éviter toute génération de particules pendant le fonctionnement en régime stationnaire. La densité de puissance est calibrée pour éliminer rapidement la pellicule de rinçage, sans dépasser les limites thermiques du photorésistant.
Pourquoi cela correspond bien au processus Après le nettoyage, il est nécessaire que la wafer soit sèche et non contaminée avant le passage au photorésistant. Ce module permet un séchage en quelques secondes, ce qui réduit le temps de cycle sans exposer la wafer à des stress thermiques. Les profils de séchage restent stables, car la surface traitée est toujours la même – pas d’eau cachée qui pourrait perturber l’évaporation du solvant. La répétabilité du processus s’améliore, et les arrêts imprévus diminuent, car le module est conçu pour fonctionner 24/7, avec une sortie stable sur plus de 5 000 heures.
Des conseils utiles pour plus tard L’installation nécessite une alignment précise par rapport à l’évacuation de la chambre de traitement, ainsi qu’une stabilité de tension vérifiée aux bornes de la lampe. L’intensité de sortie dépend de la position de la lampe ; il convient donc de fixer cette position une fois pour toutes, de la documenter et de la conserver telle quelle. La lampe fonctionne mieux lorsque l’humidité dans le bureau propre reste dans les limites prévues ; en dehors de cette plage, le temps de séchage augmente. Il est également conseillé de procéder à une calibration régulière de l’intensité, afin de maintenir une répétabilité de ±0,1°C, ce qui est essentiel pour que l’étape de séchage se déroule correctement.