Sur la ligne de production des puces de contrôle d’écran, les wafer ne tolèrent pas de déviations thermiques. Même une déviation de 0,5 °C pendant le processus de cuisson suffit pour que l’épaisseur du photorésistant varie. La marge de manœuvre lors de l’exposition diminue alors considérablement.
Dans la salle de séchage, l’humidité qui n’est pas complètement éliminée peut provoquer des micro-bridges entre les composants. On ne s’en rend compte que des semaines plus tard, lorsque le taux de réussite diminue. Nous avons conçu notre chauffage infrarouge justement pour résoudre ces problèmes : un contrôle thermique précis, sans place pour des déviations, avec une répétabilité maximale.
Ce qui est important du point de vue technique Nous utilisons des émetteurs infrarouges à courte longueur d’onde, avec des réponses rapides. Chez les wafer de 200 mm et 300 mm, on obtient une uniformité de ±0,1 °C. La répétabilité de la température lors des différents cycles de cuisson reste à ±0,2 °C. Ainsi, le processus de cuisson et de durcissement du photorésistant se déroule sans déviations par rapport aux paramètres prévus.
Le système fonctionne dans des salles propres de classe 1–100, où il n’y a aucune génération de particules, ce qui est confirmé par un suivi en temps réel des particules. La consommation d’énergie est ajustée en fonction des besoins, et les profils de chauffage se répètent avec une précision de 10 ms. Cela protège les couches minces des stress thermiques.
Pourquoi ce système est idéal pour le traitement des puces de contrôle d’écran La structure des puces est très sensible : diélectriques à faible constante diélectrique, métaux fins, espacements très petits. Le contrôle thermique doit donc être strict. Grâce à notre système infrarouge, les propriétés du photorésistant restent stables. Les opérations de retraitement diminuent, et les changements de produit sont facilités, car les temps de préchauffage longs disparaissent.
Le séchage des wafer se fait de manière uniforme, ce qui réduit la densité des défauts et stabilise la qualité de la lithographie. Le résultat est un meilleur contrôle des dimensions critiques, moins d’erreurs de focale, et un processus fiable, même après de nombreux cycles de production.
Ce qu’il faut savoir avant de l’intégrer dans votre processus Le chauffage s’intègre dans les installations existantes, mais l’alignement doit être strict. La distance entre l’émetteur et le wafer doit rester à ±0,5 mm pour maintenir l’uniformité.
Il est nécessaire d’adapter la masse thermique du support utilisé et l’émissivité de la face arrière du wafer. Il est recommandé de réaliser un test initial pour déterminer les temps de chauffage appropriés. Une fois configuré, le système peut fonctionner 24/7 avec peu d’entretien. Les lampes peuvent fonctionner plus de 5 000 heures avec une puissance stable.