Im Endeffekt hängt die Qualität des gesamten Nachspülvorgangs davon ab, wie gut die anschließende Trocknungsphase abläuft. Wenn die Temperaturkontrolle ungenau ist, treten Wasserspuren, Gradienten in der Oberflächenspannung sowie mikroscopische Verunreinigungen auf. Wir haben unser Wafern-Trocknungsmodul so konzipiert, dass diese Schwankungen nach dem Reinigen beseitigt werden – dadurch verfügt die Wafer über eine stabile, trockene Oberfläche sowie eine vorhersagbare Temperaturstruktur, wenn sie zur Lithografie verwendet wird.
Was wirklich wichtig ist
Das Modul kombiniert Kurzwellen- und Mittelwellen-Infrarotquellen in einem mit Quarz verstärkten Lampenpaket. Dadurch wird eine schnelle, selektive Erwärmung der Oberfläche erreicht. Die Zieltemperatur bleibt dabei innerhalb von ±0,1 °C konstant, und auch die räumliche Homogenität liegt im selben Toleranzbereich. Das Modul ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1 geeignet – es verwendet Materialien mit geringer Ausgasung sowie einen Luftstrom, der die Partikelbildung während des Betriebs auf Null reduziert. Die Leistungsdichte ist so kalibriert, dass die Spülverschicht schnell entfernt wird, ohne dass die thermischen Bedingungen des Photoresists beeinträchtigt werden.
Warum das Modul ideal ist
Nach dem Reinigen benötigt man eine trockene, unverunreinigte Wafer-Oberfläche, bevor der Photoresist aufgetragen und getrocknet wird. Dieses Modul trocknet die Wafer innerhalb weniger Sekunden – dadurch verkürzt sich die Gesamtbearbeitungszeit, ohne dass die Wafer unter thermischem Stress steht. Sowohl die sanfte als auch die intensive Trocknungsphase bleiben stabil, da die Oberfläche konstant bleibt – es gibt keine versteckten Wasserstellen, die die Verdampfung des Lösungsmittels stören könnten. Dadurch verbessert sich die Prozesswiederholbarkeit, und unplanmäßige Stillstände werden vermieden. Das Modul ist außerdem für einen 24/7-Betrieb ausgelegt – die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg konstant.
Hinweise, die Ihnen später zugutekommen werden
Bei der Installation muss die Lampe genau auf die Entlüftungsanlage der Prozesskammer ausgerichtet werden – außerdem muss die Spannung an den Lampenterminals stabil sein. Die Ausgangsintensität hängt von der Positionierung der Lampe ab. Legen Sie daher die richtige Position fest, dokumentieren Sie sie und sichern Sie sie ab. Die Lampe funktioniert am besten, wenn die Feuchtigkeit im Reinraum innerhalb der zulässigen Grenzen liegt. Verschreitet man diese Grenzen, erhöht sich die Trocknungszeit. Planen Sie regelmäßige Kalibrierungen der Intensität ein, um die gewünschte Wiederholbarkeit von ±0,1 °C zu gewährleisten.